直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备透明金刚石膜

• 作者: 姜宏伟 尹龙承 彭鸿雁 王丹 陈玉强 黄海亮
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 直流热阴极 PCVD 间歇生长模式 透明金刚石膜
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TB43
• 字数: 2999字
• 语种: 中文

摘要

采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（直流热阴极 PCVD）方法，通过金刚石膜的间歇生长过程，引入氮原子的作用，实现对非金刚石成份的刻蚀和金刚石膜的择优取向生长，在 CH4：N2：H2气氛下制备透明金刚石膜。金刚石膜的间歇式生长分为沉积阶段和刻蚀两个阶段，沉积阶段为20 min ，刻蚀阶段为1 min ，沉积和刻蚀通过温度的调节来实现，总的生长时间10 h；实验中主要改变的参数是 N2气比例，将N2气流量与总气体流量的比例分为高、中、低三档分别进行实验。结果在 CH4：N2：H2比例为2：20：180时获得了透明金刚石膜。金刚石膜样品用 Raman 光谱仪、SEM 和 XRD 进行了表征，研究表明，直流热阴极PCVD间歇生长模式下，通过引入氮原子的作用，可以制备出（111）面取向的透明金刚石膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜宏伟	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	29	46	3.0	5.0
2	尹龙承	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	18	25	2.0	3.0
3	王丹	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	24	43	4.0	5.0
4	黄海亮	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	18	26	3.0	4.0
5	彭鸿雁	海南师范大学物理与电子工程学院	17	1	1.0	1.0