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微细加工技术

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Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。

主办单位：

中国电子科技集团公司第48研究所

期刊荣誉：

国家一级检索刊物用刊 美国工程信息公司Ei数据库收录

ISSN：

1003-8213

CN：

43-1140/TN

出版周期：

双月刊

邮编：

地址：

湖南省长沙市

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热门刊内文献

年度刊次

31. 基于硅的微型燃料电池的研究

作者：曹广益朱新坚黄强

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 1-4,9

摘要：介绍了基于硅的微型燃料电池的国内外研究动态,总结了微型燃料电池的研究成果,并对其制作方法中的关键技术进行了阐述.在此基础上,根据微通道的特性,分析了电极板上各种不同截面形状的气道对微型燃料电...
32. 基于高能电子束曝光的相对论卢瑟福公式研究

作者：李艳秋赵国荣

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 5-9

摘要：高能电子运动速度较大,相对论效应很明显.传统的卢瑟福弹性散射公式是由非相对论的薛定谔波动方程得出的,在预言高能电子束曝光时,需要对其进行相对论修正.采用Born近似解相对论的Dirac方程,...
33. 电子束真空辐射固化技术基础研究

作者：孔祥东孙晓军宋会英张玉林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 10-13,18

摘要：提出了电子束真空辐射固化技术新概念,并对该技术的固化机理等进行了阐述.通过对液态低聚物辐射固化条件和SDS-Ⅱ型曝光机的加速电压、曝光剂量等曝光参数的分析研究,得出SDS-Ⅱ型曝光机可以用于...
34. 离子束辅助低能碳离子注入工艺原理

作者：周灵平李德意李绍禄陈劲松陈小华

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 14-18

摘要：离子束辅助低能碳离子注入是在低能含碳离子束轰击样品表面并沉积膜层的同时采用中能离子束辅助轰击注入,它可在低温下将碳离子注入到样品表层足够的深度,其注入深度比动态离子束混合(DIM)增加1～2...
35. X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真

作者：余建祖余雷王永坤陈大鹏

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 19-23,28

摘要：开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性.利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真.结果表明,图形区域的最大平面内形变(I...
36. 溶胶-电雾化系统雾滴速度场LDV测量的研究

作者：秦俊褚家如鲁健

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 24-28

摘要：用基于多普勒频移和相位差原理的LDV(Laser Doppler Velocimeter)技术研究了溶胶-电雾化系统中荷电雾滴的轴向速度及其分布,并分析了雾滴在输运过程中的受力情况.结果表明...
37. 磁控溅射和热氧化法制备ZnO纳米颗粒

作者：李玲石礼伟薛成山

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 29-32

摘要：利用射频磁控共溅射技术在Si(111)衬底上沉积金属锌/二氧化硅基质(Zn/SiO2)复合薄膜.在空气中600℃退火60 min,从SiO2基质中析出的金属Zn被空气中O2氧化生成了ZnO纳...
38. 硅基镓浓度对GaN晶体膜质量的影响

作者：孙振翠曹文田李玉国董志华薛成山魏芹芹

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 33-38

摘要：采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,再氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行了研究.用傅里叶红外谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、选区电子衍射...
39. 10%TMAH硅湿法腐蚀技术的研究

作者：司俊杰马斌

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 39-44

摘要：研究了浓度为10%的四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液,在不同量的Si粉掺杂下,对铝膜及硅衬底的腐蚀及其pH值的变化.测试了在满足铝膜极低的腐蚀速率(＜1 rim/min)时,不同温度下该腐蚀液...
40. 正交法对DEM技术中模压工艺的优化研究

作者：刘景全孙洪文陈迪顾盼

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 45-49

摘要： DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成.其中微复制常采用模压工艺,而...
41. 微电磁继电器的结构设计和仿真分析

作者：周煜李德胜李浩群

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 50-54

摘要：介绍一种微电磁继电器的结构和工作原理.应用ANSYS软件对这种微继电器的蟹脚型悬臂梁进行静力学和动力学性能分析,得到结构参数对其机械性能影响的关系曲线,初步确定该结构的模型.仿真结果表明,在...
42. 基于MEMS技术的微型燃料电池的制作

作者：刘理天姜英琪王晓红谢克文

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 55-58

摘要：提出一套基于MEMS加工技术和薄膜淀积技术的硅基微型直接甲醇燃料电池的制作工艺流程.该微型燃料电池采用KOH体硅腐蚀技术得到流体通道,并溅射金属Pt层作为收集电流的电极.采用PDMS将两块带...
43. 微流控芯片硅阳模的加工

作者：叶美英方肇伦殷学锋

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 59-64

摘要：研究了单晶硅阳模的制作工艺.考察了光刻胶前烘和后烘的温度、刻蚀剂浓度、组成及刻蚀温度等因素对单晶硅阳模质量的影响.得出了单晶硅阳模制作的最佳条件,用AZ4620光刻胶转移图形及二氧化硅为硅片...
44. 用于微摩擦测试的微力传感器及其制作

作者：吴一辉张平李也凡王淑荣贾宏光黎海文

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 65-69

摘要：微构件表面的摩擦状况和磨损机理与宏观构件有较大的区别,需一种能够测量微米尺度样品摩擦特性的专用仪器.给出了一种新型硅微力传感器的设计原理、结构、制作工艺及其弱信号采集方法.静态性能测试结果表...
45. 一种PDMS薄膜型微阀的制备与性能分析

作者：崔海航李战华靳刚

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 70-75

摘要：通过厚胶光刻工艺在硅片上制备SU-8胶模板,利用该模板制备了高分子聚合物PDMS(PolydimethylsiIoxane,聚二甲基硅氧烷)微流道和薄膜结构.通过对不同结构的两层PDMS的不...
46. 一种高分子聚合物PCR芯片的设计及有限元分析

作者：张卫平李建华牛志强贾晓宇陈文元

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年3期

页码: 76-80

摘要：设计了一种以PDMS为基底的微型PCR芯片,并用有限元软件对芯片做了详细的温度场分析,主要分析了微型PCR芯片温度场的均匀性和分布以及芯片升、降温的效率.分析结果表明设计的聚合物芯片温度分布...
47. 低能电子束对抗蚀剂曝光的Monte Carlo模拟

作者：孔祥东宋会英张玉林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 1-6

摘要：考虑二次电子的产生和散射,利用Monte Carlo方法模拟了具有高斯分布特征的低能入射电子束斑在抗蚀剂中的散射过程,分别得到了电子束在抗蚀剂中的穿透深度和能量沉积的分布图.发现在能量小于2...
48. 高能电子束曝光技术研究

作者：彭开武田丰靳鹏云韩立顾文琪

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 7-10

摘要：介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验.结果表明,利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条,并且能够制备出具有高...
49. 液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

作者：顾文琪马向国

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 11-15

摘要：发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性.通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和...
50. 基于SOI的双极场效应晶体管

作者：尚玉全晏敏曾云滕涛高云

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 16-21

摘要：在分析了双极型晶体管和场效应晶体管各自的特点和不足后,介绍了一种既具有双极型晶体管较大电流容量和功率输出,又具有场效应晶体管高输入阻抗的电子器件--双极MOS场效应晶体管(BJMOSFET)...
51. 纳米岛光刻技术及其应用

作者： Mino Green 伊福廷

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 22-26

摘要：介绍了一种基于微加工技术的新方法--纳米岛光刻技术.利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构.该技术的特点是能够制...
52. 深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS 1.0

作者：伊福廷叶甜春张菊芳王德强谢常青陈大鹏韩勇

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 27-30,35

摘要：介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件--XLSS 1.0.该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面...
53. 磁控溅射制备Co1-xPtx:C复合纳米颗粒薄膜的研究

作者：张效岩覃文

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 31-35

摘要：采用组合靶,利用磁控共溅射技术制备了Co1-xPtx:C复合纳米颗粒薄膜,并从实验和理论上对不同Pt浓度CoPt:C薄膜的组分、微结构、磁性能、组分和微结构与磁性能之间的关系以及薄膜的应用进...
54. 退火对IBED氧化钒薄膜结构和性能的影响

作者：李金华袁宁一谢建生

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 36-40,63

摘要：对离子束增强沉积(IBED)氧化钒薄膜作不同条件的退火,用X射线衍射分析薄膜的晶体结构;用电阻-温度测试分析了薄膜的热电阻温度系数.实验发现,沉积薄膜存在一个形成二氧化钒结构的临界结晶温度,...
55. Pyrex玻璃的湿法刻蚀研究

作者：周健闫桂珍

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 41-44

摘要：对Pyrex 7740玻璃的湿法刻蚀工艺进行了研究.实验中采用了几种不同的材料(光刻胶、Cr/Au、TiW/Au)作为刻蚀玻璃的掩膜,通过实验发现TiW/Au掩膜相对目前比较常用的Cr/Au...
56. 等离子体处理提高SiO2薄膜驻极体的稳定性

作者：李金华袁宁一

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 45-49,73

摘要：利用等离子体对硅衬底上热生长SiO2薄膜进行表面处理,提高了二氧化硅薄膜驻极体电荷的储存稳定性.不同种类的等离子体处理,效果明显不同.同种等离子体处理的时间不同,对电荷储存性能的改善也不同....
57. 氧化多孔硅上制作Cu电感的研究

作者：刘泽文刘理天李志坚陈忠民

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 50-55

摘要：给出了一种厚膜氧化多孔硅(OPS)层上制作Cu电感的新型工艺技术.由于OPS是一种低损耗的材料,铜的电阻率很低,采用OPS隔离硅衬底和Cu线圈能够降低电感的寄生损耗,提高电感Q值.实验过程中...
58. 飞秒激光蚀除金属的分子动力学模拟

作者：刘璇王扬赵丽杰

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 56-63

摘要：采用耦合一维双温模型的分子动力学方法,从连续及原子级的角度详尽描述了飞秒激光与金属的相互作用过程.建模时不仅考虑了激光能量的吸收方式、电子热传输及电子-晶格间的能量交换,而且对底部边界进行了...
59. 用于MEMS器件的真空密封技术

作者：徐东林仰魁蔡炳初钱开友

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 64-68,78

摘要：介绍MEMS器件中常用的键合技术和适用于真空密封与器件性能要求的特殊结构设计,以及提高和保持器件高真空环境的方法.合适的真空密封技术不仅能够保证和提高MEMS器件的性能,同时可以简化工艺步骤...
60. 微通道式PCR芯片温度的研究

作者：张卫平牛志强贾晓宇陈文元

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2004年4期

页码: 69-73

摘要：微通道式PCR芯片是对DNA扩增的新方法,通过样品试剂在三个温区间的流动,实现对试剂中特定DNA片段的几何级数扩增.研究了一种新型微通道式PCR芯片,利用有限元技术,对芯片上热区的温度梯度和...

微细加工技术基本信息

刊名	微细加工技术	主编
曾用名
主办单位	中国电子科技集团公司第48研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种	chi
ISSN	1003-8213	CN	43-1140/TN
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