真空期刊
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3

真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
文章浏览
目录
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  1-7
    摘要: 兰州物理研究所研制了一系列真空标准装置,可用于真空规、方向规、分压力质谱计、真空漏孔和正压漏孔的校准.其静态膨胀法真空标准装置、动态流量法真空标准装置及超高/极高真空校准装置是用于真空规校准...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  8-11
    摘要: 远洋蔬果复合气调保鲜包装系统(MAP)不仅工作情况复杂,而且海洋上O2在大气中约占25%,一般陆地空气中O1只占21%,同时海洋大气压比陆地又高.为了优化远洋蔬果复合气调包装系统设计,缩短试...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  11,46,50
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  12-16
    摘要: 中性束注入装置(Neutral Beam Injector,NBI)是产生高能中性粒子束用以加热托卡马克等离子体的装置.NBI真空压力分布是影响中性束传输效率特别是再电离损失的关键因素之一....
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  17-19
    摘要: 本文应用CFX软件及k-ε湍流模型,实现了液环真空泵喷射器三维动传热的数值模拟.并分析喷射器内流场的压力分布、马赫数分布和温度分布,了解其内部的复杂流动,利用仿真结果计算出液环真空泵喷射器在...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  20-23
    摘要: 本文介绍了一套新研制的扩散真空泵件能的自动测试系统.该系统可以按照国家标准规定的方法自动检测扩散真空泵的极限压力和抽速.系统利用自主开发的光电液位检测方法和元件实现滴管液位的自动读取和记时;...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  24-27
    摘要: 用去除材料的方法对爪式转子做平衡分析,利用平衡理论计算得出待移除的质量m和待移除质量m在转子上的分布位置A(x,y,z).然后借助Pro/Engineer、Adams等仿真工具对去除质量后的...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  28-31
    摘要: 长期以来,我国发展双级滑阀真空泵遇到不少困难和挑战,标准制定后相隔二十多年才有生产2H-150等产品.实际上由于大抽速的双级滑阀真空泵设计制造会遇到动平衡、控制双级供油、降低噪声等一系列的问...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  32-34
    摘要: 本文详细描述了真空蒸汽处理系统的组成、工作原理、适用范围和工作性能,通过与滑阀真空泵及三级罗茨液环机组性能参数、工作情况及成本消耗情况的对比,说明真空蒸汽处理系统的优势及特点.与其它抽吸蒸汽...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  35-39
    摘要: 为满足各技术领域的要求,硬质薄膜业近年来得到了广泛的发展和应用.本文介绍了硬质薄膜技术的最新发展状况,阐述了各技术的特点和代表厂商.首先对CVD及其相关技术的发展情况进行了简介,再对PVD技...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  40-42
    摘要: 本文以C2H2为碳源,Ar气为辅助气体,采用新型离子束源和磁控溅射源的混合技术在缝纫机针杆上成功制备了具有不同过渡层的类金刚石薄膜,并表征了薄膜的表面形貌,测量了其硬度、结合力、摩擦系数,划...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  43-46
    摘要: 采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在铜衬底上沉积了微米和纳米两种金刚石薄膜,过渡层均为钛一铝一钼.用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察薄膜的表面及断面形貌,用拉曼(Raman...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  47-50
    摘要: 采用PECVD法制备的纳米硅薄膜是一种具有特殊性能的人工材料.它是由大量具有纳米量级的硅微品粒构成,纳米硅晶粒镶嵌在由非晶硅构成网络中,其晶粒所占的体积百分比为Xc≈50%,从而决定了其特有...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  51-54
    摘要: 本文用真空蒸发法在玻璃衬底上蒸镀Cu-In-Al多层膜,后采用真空硒化退火获得Al含量不同的Cu(In1-xAlx)Se2多晶薄膜.通过SEM和XRD微观形貌结构分析发现,薄膜中Al的含量对...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  55-58
    摘要: 利用真空蒸发的方法制备ZnTe多晶薄膜.并采用双源法对薄膜进行了稀土元素Pr的掺杂.用XRD、紫外可见分光光度仪、冷热探针对薄膜的性质进行了表征.结果表明,当原子配比Zn:Te:1:0.7,...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  59-62
    摘要: 本文采用VHF-PECVD技术制备了系列硅薄膜,通过椭圆偏振技术及拉曼测试手段研究了衬底表面预处理时间对微晶硅薄膜的微结构及其生长的影响.实验结果表明:随衬底预处理时间(0~10 min)的...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  63-66
    摘要: 采用纳米压痕仪测量Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能,结合有限元仿真的手段对压痕测试进行模拟.通过实验测出了双层膜的弹性模量值和硬度值随着压深h的不同而表现出一定的变化规律,以及得出了溅射时由...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  67-70
    摘要: 冷冻干燥法能有效控制饱水木质文物的收缩、开裂、断裂等现象,脱水处理后文物的三维稳定性较好.本文主要介绍了国内外处理饱水木质文物的冷冻干燥法的研究动态,其中重点介绍了以聚乙二醇(PEG)为保护...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  71-73
    摘要: 将超氧化物歧化酶(SOD)、辣根过氧化物酶(HRP)和淀粉酶(α-AMY)置于真空环境中不同时间,测试真空对超氧化物歧化酶、辣根过氧化物酶和α-淀粉酶活性的影响.不同真空处理时间对酶蛋白活性...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  74-76
    摘要: 针对阴极失效影响因素中的真空度问题,利用扫描电子显微镜以及能谱仪作为研究手段,分析对比了未老炼以及在不同真空条件下老炼的阴极的微观结构以及成分差异,结果表明,真空度降低,阴极中发射物质将与空...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  77-79
    摘要: 采用低气压氩气直流辉光放电等离子体对PVC细管内表面进行了处理,使其内表面亲水性得到显著改善,且处理效果均匀.处理时间越长PVC细管内表而的水接触角越小.经过处理后的PVC细管放置室内大气环...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  80-82
    摘要: 对不同压力下三氧化二铝与碳、氯化铝在低价氯化物法炼铝过程中生成低价二氯化铝及低价二氯化铝分解的热力学条件进行简化计算.研究得出:在100 kPa时,三氧化二铝与还原剂碳反应在1896 K以上...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  83-85
    摘要: 为解决光纤进入钢制容器时造成的泄漏问题,密封转接是一种有效方法.分析了光纤转接器灌胶密封结构及其缺陷,证实了转接器内部存在某些特殊的漏孔.研究了光纤密封转接的高灵敏度氦质谱检漏工艺技术,利用...
  • 24. 信息
    作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  85,19,23,31
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2009年6期
    页码:  85-88
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空评价信息

期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
2. 工程技术类核心期刊

真空统计分析

被引趋势
(/次)
(/年)
学科分布
研究主题
推荐期刊
  • 期刊分类
  • 最新期刊
  • 期刊推荐
  • 相关期刊