学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
热门 论文降重
免费 免费查重
学术期刊
任务中心
登录
文献导航

真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
文章浏览
年度刊次
目录
  • 1. Ag(110)表面并四苯薄膜生长光电子谱研究
    作者： 何丕模 吕斌 张寒洁 李海洋 陶永升 鲍世宁 黄寒
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  1-3,17
    摘要： 利用光电子能谱研究了有机半导体并四苯(tetracene)与金属Ag(110)界面的相互作用特性和电子性质,UPS测量给出tetracene的价带结构,其价带顶(HOS)位于费密能级以下约2...
  • 2. 新型荫罩式PDP中电极对放电特性影响模拟分析
    作者： 尹涵春 屠彦 张健
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  4-9
    摘要： SM-PDP中可以通过改变电极宽度,使放电空间的等位面沿电极增加的方向扩展,在等位面扩展的区域电场得到增强,从而改善SM-PDP的放电性能.但在性能改善的同时,相邻电极间的电感加大,输入功率...
  • 3. 异质外延MgO/SrTiO3薄膜中界面应力研究
    作者： 姬洪 张鹰 李言荣 李金隆 艾万勇 蒋书文 郑亮 陈寅
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  10-13
    摘要： 本文利用激光分子束外延(LMBE)技术在SrTiO3(100)单晶基片上外延生长MgO薄膜,同时又在MgO(100)单晶基片上外延生长SiTiO3(STO)薄膜.通过反射高能电子衍射(RHE...
  • 4. AC-PDP放电特性参量及其测量
    作者： 刘祖军 刘纯亮 梁志虎
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  14-17
    摘要： 根据气体放电特性和交流等离子体显示器的放电单元结构,提出了AC-PDP等效电路模型和表征该模型的3个特性参量:击穿电压、气体维持放电的最小电压和放电单元电容比.通过分析放电过程,推导出最大维...
  • 5. X射线光刻掩模加工过程中的形变研究
    作者： 余建祖 余雷 王永坤
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  18-20,29
    摘要： 对以SiNx为衬基的X射线光刻掩模在背面刻蚀过程中的形变进行数值仿真,研究了Si片和衬基的各种参数对掩模最大平面内形变和非平面形变的影响.结果表明,参数的变化明显影响最大非平面形变量.当Si...
  • 6. 定容式流导法微流量校准装置
    作者： 冯焱 孙海 张涤新 成永军 李得天 李正海 李莉 赵定众 赵澜 郭美如 龚月莉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  21-25
    摘要： 定容式流导法微流量校准装置是气体微流量的计量标准,可采用定容法和流导法对气体微流进行校准,校准范围为(5×10-2～5×10-11)Pa·m3/s,合成标准不确定度为0.56%～1.7%.
  • 7. 半金属铋薄膜导电特性和粗糙度的研究
    作者： 何丕模 张建华 徐建峰 李海洋 鲍世宁
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  26-29
    摘要： 本论文利用真空镀膜方法在云母片上生长半金属Bi薄膜,测量了薄膜生长厚度与电阻之间的关系,并用原子力显微镜(AFM)研究了云母表面半金属薄膜电阻变化与薄膜粗糙度间的关系.生长初始阶段,薄膜先形...
  • 8. 电弧放电法制备SiC纳米丝的实验研究
    作者： 凌一鸣 吴旭峰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  30-32
    摘要： 电弧放电法实验制备了碳化硅纳米丝.在6 mm的石墨棒中心钻一个4 mm的孔,将50at.%C+50at.%SiO2的粉末充分混合,填入其中作电弧放电阳极,水冷铜靶作阴极,放电电流70 A...
  • 9. 射频磁控共溅射制备光催化Ag-TiO2薄膜
    作者： 任达森 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮健 蔡臻炜
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  33-36
    摘要： 采用射频磁控共溅射法制备Ag-TiO2复合薄膜,通过控制Ag靶的溅射时间可调节Ag与TiO2的比例.所制备的Ag-TiO2薄膜为锐钛矿结构.通过紫外光照降解亚甲基蓝溶液和循环伏安法研究Ag-...
  • 10. 非晶Co-Nb-Zr薄膜的纳米晶化及磁性
    作者： 张怀武 文歧业 石玉 蒋向东
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  37-40
    摘要： 采用扫描式差热(DSC)分析、X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、梯度样品磁强计(AGM)和磁力显微镜(MFM),研究磁控溅射制备的Co80.8Nb14Zr5.2磁性薄膜,在485℃～...
  • 11. 类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备
    作者： 丁万昱 徐军 董闯 邓新绿 高鹏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  41-46,49
    摘要： 类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜.磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到1万亿字节/英寸2.这要求读写磁头距离磁盘更近,即需要一层仅1 nm～2 nm厚的类金刚石薄膜....
  • 12. 二代近贴聚焦像增强器纳秒响应技术研究
    作者： 徐江涛
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  47-49
    摘要： 从理论上对光电阴极面发射电子过渡过程进行分析,光电阴极面电阻是影响光电发射过渡过程的主要因素.通过对光电阴极制备技术改造,使二代近贴聚焦像增强器的管子时间响应小于2ns.
  • 13. 锑在直流反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜中的作用
    作者： 俞宏坤 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮键 蔡臻炜
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  50-52
    摘要： 用直流反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了Sb修饰TiO2薄膜,利用XRD,Raman光谱以及SIMS研究了Sb对其表面结晶情况的影响并用XPS及SIMS分析了薄膜的成分.结果表明一定程度Sb...
  • 14. 电子束蒸镀制备的Mg-Zr-O复合介质保护膜结晶取向的研究
    作者： 刘柳 刘纯亮 夏星 范玉峰 郭滨刚
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  53-56
    摘要： 采用电子束蒸发制备Mg-Zr-O复合介质保护膜,使用X射线衍射测试Mg-Zr-O复合介质保护膜的结晶择优取向,研究了ZrO2掺杂及工艺参数对Mg-Zr-O复合介质保护膜结晶取向的影响.结果表...
  • 15. Al诱导a-Si:H薄膜的晶化
    作者： 祁菁 胡海龙 贺德衍 金晶
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  57-60
    摘要： 采用等离子体化学气相沉积方法在镀Al玻璃及单晶Si衬底上制备了氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了样品在不同的热处理过程中Al对其晶化过程的影响.X射线衍射测量发现,由于Al的存在使a-S...
  • 16. 氮分压对反应溅射(Ti,Al)N薄膜微结构与力学性能的影响
    作者： 李戈扬 梅芳华 邵楠 魏仑
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  61-64
    摘要： 采用Ti-Al复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Ti,Al)N薄膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针表征了薄膜的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能.结果表明,氮分压对(Ti,Al)N薄...
  • 17. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
    作者： 巴德纯 汪保卫 沈辉 王贺权 闻立时
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  65-68
    摘要： 用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定电源功率、氩气流量42.6 sccm、氧流量15 sccm、溅射时间30 min的条件下,通过控制总气压改变TiO2薄膜的光学...
  • 18. 气离溅射离子镀制氮化钛
    作者： 刘祥武 张守忠 文学春 杜建 田凯 罗蓉平 董骐 钟钢
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  69-74
    摘要： 本文详细介绍了气体离子源增强磁控溅射(气离溅射)反应离子镀膜技术和系统配置.特别是首次提出空分气离溅射的新概念,实现了磁控溅射金属镀膜过程和气体离子轰击化学反应过程在真空室内空间上的分离,从...
  • 19. 一种新型Si电子束蒸发器的研制及其应用研究
    作者： 刘金锋 张西庚 徐彭寿 潘海滨 王文君 王科范 邹崇文
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  75-78
    摘要： 我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长.由于采用悬臂式设计,它完全克服了高压短路的问题.电子束蒸发器的性能试验表明,稳定输出功率可以控制输出...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

被引趋势
(/次)
(/年)
学科分布
研究主题
推荐期刊
  • 期刊分类
  • 最新期刊
  • 期刊推荐
  • 相关期刊
一般工业技术 交通运输 军事科技 冶金工业 动力工程 化学工业 原子能技术 大学学报 建筑科学 无线电电子学与电信技术 机械与仪表工业 水利工程 环境科学与安全科学 电工技术 石油与天然气工业 矿业工程 自动化技术与计算机技术 航空航天 轻工业与手工业 金属学与金属工艺
北京勘察设计 爆破 巴蜀质量跟踪 包装工程 包装世界 包装与设计 材料保护 材料导报 材料工程 材料开发与应用 材料科学技术(英文版) 材料科学与工程学报 材料科学与工艺 材料研究学报 CT理论与应用研究 磁性材料及器件 影视制作 低温工程 低温与超导 低温与特气 大众标准化 复合材料学报 福建分析测试 福建质量管理 福建质量技术监督
液压与气动 遥感技术与应用 材料科学与工程学报 理化检验-化学分册 振动工程学报 噪声与振动控制 机械工程材料 膜科学与技术 国外电子测量技术 新技术新工艺 振动、测试与诊断 材料科学与工艺 图学学报 中国测试 材料研究学报 制冷学报 应用科技 应用基础与工程科学学报 中国材料进展 声学技术 计量学报 真空科学与技术学报 中国设备工程 人类工效学 液压气动与密封
真空科学与技术学报
按字母查找期刊：

联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com

京ICP备2021016839号 营业执照 版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号