角度限制散射投影电子束光刻

• 作者: 田华 郭宝增
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 电子束光刻 集成电路
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: EDA技术专栏
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TN305|7
• 字数: 4519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2001.10.013

摘要

角度限制散射投影电子束光刻(SCALPEL)采用并行投影技术,具有分辨率高、曝光范围大的特点,可望获得远比电子束直写光刻高的产量.本文介绍了SCALPEL的原理、特点及该技术的研究进展情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭宝增	河北大学电子与信息工程学院	61	447	11.0	19.0
2	田华	河北大学电子与信息工程学院	22	110	6.0	10.0