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摘要:
熔融图形化的光刻胶是三维曲面微结构加工的常用方法,但是,一次成型的熔胶工艺制作的弯曲面曲率半径较小,为此我们提出了一种借助二次熔胶工艺实现微弯曲面成型的新工艺-多线成面技术.此方法工艺简单,一般具备光刻条件的实验室就能够实现,与传统工艺兼容性好,用它制作的弯曲面可以与灰阶掩膜光刻相比拟,介绍了该工艺的原理和特点.
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内容分析
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文献信息
篇名 微弯曲面成型技术-多线成面技术
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 高深宽比光刻胶结构 熔融成型 二次涂胶定型 微弯曲面 任意形状表面
年,卷(期) 2003,(5) 所属期刊栏目 新工艺新技术
研究方向 页码范围 210-213
页数 4页 分类号 TP212
字数 3746字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3474.2003.05.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨春生 上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室 33 314 10.0 16.0
2 丁桂甫 上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室 60 503 12.0 19.0
3 张永华 上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室 17 231 8.0 15.0
4 蒋振新 上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室 7 80 5.0 7.0
5 倪智萍 上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室 5 54 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
高深宽比光刻胶结构
熔融成型
二次涂胶定型
微弯曲面
任意形状表面
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
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