考虑量子效应的双栅MOSFET的阈电压解析建模

• 作者: 余志平 张大伟 田立林
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 双栅MOSFET 一维解析量子求解 沟道深度方向的非均匀电势 电子密度 阈电压 沟道深度
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 429-435
• 页数: 7页
• 分类号: TN304.02
• 字数: 3225字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.03.002

摘要

推导了双栅MOSFET器件在深度方向上薛定谔方程的解析解以求得电子密度和阈电压.该解析解考虑了任意深度情况下沟道中深度方向上电势的不均匀分布,结果与数值模拟吻合.给出了电子密度的隐式表达式和阈电压的显式表达式,它们都充分考虑了量子力学效应.模型显示,在亚阈值区或者弱反型区,电子密度随深度增加而增加;然而,在强反型区,它与深度无关,这与数值模拟的结果吻合.结果进一步显示,只考虑方形势阱的量子力学结果,略高估计了阈电压,且低估了电子密度.误差随着深度的增加或者栅氧厚度的减少而增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	清华大学微电子学研究所	19	414	9.0	19.0
2	余志平	清华大学微电子学研究所	45	158	7.0	10.0
3	田立林	清华大学微电子学研究所	31	116	6.0	8.0