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摘要:
采用激光分子束外延法(L-MBE)在SiNx/Si(111)衬底上制备了高质量的ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的晶体结构、表面形貌进行了表征,结果表明ZnO薄膜有高度的c轴择优取向,薄膜表面平整致密.并以ZnO薄膜为沟道层制作了薄膜晶体管(ZnO-TFT),该晶体管工作在n沟道增强模式,阈值电压为17.5V,电子的场迁移率达到1.05cm2/(V·s).
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文献信息
篇名 L-MBE法制备以ZnO为沟道层的薄膜晶体管
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 激光分子束外延 ZnO薄膜 薄膜晶体管
年,卷(期) 2006,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1051-1054
页数 4页 分类号 O472+.4
字数 1595字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.06.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张新安 河南大学物理与信息光电子学院 14 56 6.0 6.0
3 张伟风 河南大学物理与信息光电子学院 66 248 8.0 10.0
4 娄辉 河南大学物理与信息光电子学院 3 10 2.0 3.0
5 张景文 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 20 109 7.0 9.0
6 杨晓东 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 6 59 5.0 6.0
7 刘振玲 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 2 8 1.0 2.0
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激光分子束外延
ZnO薄膜
薄膜晶体管
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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