SiOx薄膜的制备及发光特性研究

• 作者: 何娟美 吴雪梅 徐小华 李群 游泳 符五久 饶瑞昌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: SiOx薄膜 双离子束 溅射 光致发光
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 47-49
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1260字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.04.011

摘要

本论文采用双离子束溅射沉积技术制备了非晶的SiOx薄膜,XPS的测试表明Si是以单原子或低价氧化物的形态存在于薄膜内;在波长为240 nm紫外光的激发下,室温及1000℃退火后SiOx薄膜的PL谱图显示样品中存在峰位分别处于320 nm,410 nm,560 nm,630 nm四个相互分离的峰,其发光机制分别为来自中性氧空位缺陷(≡Si-O-O-Si≡)、双配位硅悬挂键(O-Si-O)、非桥氧空位中心以及其他缺陷所形成的发光中心.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐小华	东华理工学院物理系	15	54	4.0	7.0
2	何娟美	东华理工学院物理系	6	40	2.0	6.0
3	吴雪梅	苏州大学物理科学与技术学院	72	331	9.0	13.0
4	符五久	东华理工学院物理系	12	35	3.0	5.0
5	李群	东华理工学院物理系	13	16	2.0	3.0
6	游泳	东华理工学院物理系	12	54	2.0	7.0
7	饶瑞昌	东华理工学院物理系	4	1	1.0	1.0