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摘要:
研制了一种用于射频领域的叉指栅PDSOI LDMOS晶体管,并分析了总剂量辐照对其静态和小信号射频特性的影响.其静态工作模式下的辐照响应由前/背栅阈值、泄漏电流、跨导和输出特性表征,而其交流工作模式下的辐照响应由截止频率和最高振荡频率表征.实验表明,在室温环境下经过总剂量为1Mrad(Si)的γ射线辐照,不同尺寸和结构的射频SOI LDMOS晶体管的各项指标均表现出明显退化,并且仅当器件工作在静态模式时LBBC LDMOS才表现出优于BTS LDMOS的抗辐照性能.
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界面态
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电离总剂量辐照试验流程阐述
电离总剂量
金属-氧化物-半导体器件
辐照流程
偏置条件
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 RF PDSOI LDMOS器件的电离总剂量辐照效应
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 部分耗尽SOI LDMOS 射频 电离总剂量辐照
年,卷(期) 2008,(11) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 2158-2163
页数 6页 分类号 TN385
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.11.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩郑生 中国科学院微电子研究所 122 412 10.0 12.0
2 宋李梅 中国科学院微电子研究所 18 56 5.0 5.0
3 杜寰 中国科学院微电子研究所 41 108 5.0 6.0
4 刘刚 中国科学院微电子研究所 207 2369 24.0 40.0
5 毕津顺 中国科学院微电子研究所 37 78 5.0 6.0
6 刘梦新 中国科学院微电子研究所 16 70 5.0 7.0
7 范雪梅 中国科学院微电子研究所 2 6 1.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
部分耗尽SOI
LDMOS
射频
电离总剂量辐照
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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