193 nm浸没式光刻材料的研究进展

• 作者: 何鉴 李冰 穆启道 郑金红 高子奇
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 193 nm浸没式光刻 浸没液体 顶部涂料 光刻胶
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 743-747
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.09.002

摘要

介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战.在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述.并对顶部涂料存在的问题进行了阐述.对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何鉴		2	6	2.0	2.0
2	高子奇		1	2	1.0	1.0
3	李冰		3	4	2.0	2.0
4	郑金红		5	44	4.0	5.0
5	穆启道		3	21	2.0	3.0