基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜

• 作者: 李以贵 陈少军
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光 掩膜版投影 LIGA掩膜版 PMMA基板
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 349-351
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 985字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.04.013

摘要

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高.为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本.分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论.将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构.通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm.