射频功率对非晶硅薄膜光电性能的影响

• 作者: 安会静 山秀文 李广 杨瑞霞 薛俊明 雷青松
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶硅薄膜 折射率 吸收系数 光学带隙 暗电导率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 29-31
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术,在Coming Eg 2000玻璃上制备非晶硅薄膜,研究了射频功率对薄膜光电性能的影响.结果表明:通过调节功率可获得具有高折射率,高吸收系数,低暗电导率的非晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑞霞	河北工业大学信息工程学院	180	759	13.0	18.0
2	薛俊明		15	43	5.0	5.0
3	雷青松		9	35	4.0	5.0
4	安会静	河北工业大学信息工程学院	2	5	2.0	2.0
5	山秀文	河北工业大学信息工程学院	2	5	2.0	2.0
6	李广	河北工业大学信息工程学院	7	17	3.0	3.0