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摘要:
采用增强/耗尽型(E/D)结构的赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)技术,研制开发的射频开关,具有插损低、隔离度高、承受功率大、线性度高等特点.产品采用0.5μm栅长的砷化镓PHEMT E/D标准工艺加工,将开关电路和驱动电路集成在一颗芯片上,并做了相应的静电防护设计.测试结果表明,在0.01~5.o GHz带内,插入损耗≤1.2 dB@3 GHz、≤1.6 dB@5 GHz,带内输入输出驻波比≤1.5,隔离度≥60 dB@3 GHz、≥52 dB@5 GHz,1dB压缩功率点达到了30 dBm,IP3超过了+-52 dBm.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 内置驱动器的砷化镓高隔离开关芯片
来源期刊 固体电子学研究与进展 学科 工学
关键词 砷化镓 增强型 耗尽型 射频开关 赝配高电子迁移率晶体管
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 射频与微波
研究方向 页码范围 365-369
页数 分类号 TN386
字数 1971字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-3819.2012.04.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张有涛 19 40 4.0 5.0
3 许正荣 2 6 2.0 2.0
4 杨磊 12 17 2.0 4.0
5 李娜 2 4 1.0 2.0
8 应海涛 1 4 1.0 1.0
9 李小鹏 1 4 1.0 1.0
传播情况
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2016(1)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
砷化镓
增强型
耗尽型
射频开关
赝配高电子迁移率晶体管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
固体电子学研究与进展
双月刊
1000-3819
32-1110/TN
大16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东路524号)
1981
chi
出版文献量(篇)
2483
总下载数(次)
5
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9851
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