热壁LPCVD设备TEOS工艺炉管的使用与维护

• 作者: 吴海
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 热壁 淀积 薄膜 均匀性 维护
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 半导体材料与设备
• 页码范围: 786-789
• 分类号: TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2012.10.010

摘要

通过介绍热壁LPCVD的TEOS工艺淀积SiO2薄膜的原理,分析了在淀积薄膜的过程中经常遇到的薄膜均匀性等方面的问题.重点分析了硅片中心与石英管轴心所处的相对位置对片内薄膜均匀性的影响关系、石英舟的位置以及恒温区的温度控制对片间均匀性的影响关系,并详细地分析、给出了具体的调整方法.对于该工艺炉管在实际的使用过程中经常遇到的一些故障现象,分析了产生故障的原因并提出了解决方法.最后对TEOS工艺炉管在日常使用过程中的保养和维护给出了一些建议.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴海	中国电子科技集团公司第十三研究所	7	9	2.0	2.0