柔性电子用NiW薄片上ZCO异质外延生长

• 作者: 赵静
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: Zr掺杂氧化铈 薄膜 异质外延 柔性电子 溅射法 面内织构
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: TN604
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2014.03.006

摘要

低成本柔性金属薄片上的异质外延氧化铈薄膜的潜在应用领域有固体燃料电池、气体传感器和光学器件等.利用直流反应磁控溅射法在双轴织构NiW合金衬底上进行Zr掺杂氧化铈薄膜的外延生长研究.结果表明,不同Zr掺杂量的薄膜可通过调制Zr靶上的溅射功率获取,所有样品均为c轴垂直于基片表面生长,显示出良好的外延特性.原子力显微镜分析结果表明,样品表面连续、致密、无裂纹.电子背散射衍射图谱显示Zr0.32Ce0.68O1.84膜具有良好的四重对称面内织构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵静	中国电子科技集团公司第十五研究所	6	0	0.0	0.0