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摘要:
针对传统n-GaAs的Au/AuGe/Ni欧姆接触合金系统的缺点,提出了添加Pt扩散阻挡层的新型欧姆接触合金系统.扫描电子显微镜(SEM)和微束分析(EDS)测试显示,添加Pt扩散阻挡层的合金系统比没有Pt扩散阻挡层的合金系统的表面更加光滑,粗糙度降低.矩形传输模型(RTLM)测试显示,添加Pt阻挡层的比接触电阻率均匀性为85%,最低比接触电阻率为4.25×10-6Ω·cm2;而未添加Pt阻挡层的比接触电阻率均匀性为12%,最低比接触电阻率为3.86×10-6Ω·cm2,表明Pt扩散阻挡层的添加能够增加n-GaAs欧姆接触的重复性和均匀性,提高器件在使用过程中的热稳定性和可靠性.
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文献信息
篇名 具有Pt扩散阻挡层的n-GaAs欧姆接触的可靠性
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 n型GaAs 欧姆接触 扩散阻挡层 Au/AuGe/Ni 比接触电阻率
年,卷(期) 2014,(11) 所属期刊栏目 半导体制造技术
研究方向 页码范围 846-849,877
页数 分类号 TN305.93
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.11.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘丹丹 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 5 24 2.0 4.0
2 王勇 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 26 43 4.0 5.0
3 王晓华 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 54 156 7.0 9.0
4 叶镇 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 3 1 1.0 1.0
5 高占琦 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 3 1 1.0 1.0
6 张屿 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 2 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
n型GaAs
欧姆接触
扩散阻挡层
Au/AuGe/Ni
比接触电阻率
研究起点
研究来源
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半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
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