激光脉冲退火对40 nm超浅结和pMOS器件性能的优化

• 作者: 刘巍 张冬明 张鹏
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光脉冲退火(LSA) 超浅结(USJ) 二次离子质谱(SIMS) 卷曲曲线 本征特性曲线
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体制造技术
• 页码范围: 850-854
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.11.011

摘要

使用二次离子质谱(SIMS)和电学特性参数测量深入研究了在40 nm低功耗工艺中,激光脉冲退火(LSA)对超浅结(USJ)以及其对pMOS器件有源区和多晶硅栅方块电阻、阈值电压卷曲曲线和本征特性曲线的影响.从SIMS结果可以看出,LSA由于其作用时间非常短(微秒量级),与锗的预非晶化离子注入结合起来,在完成注入离子激活的同时,有效避免不必要的结扩散,从而控制结深,形成超浅结.从进一步的电学特性测量上发现LSA对器件的薄层电阻、结电容和结漏电流也有非常大的影响:LSA和尖峰退火(SPK)共同退火的方式较单独的SPK退火方式,多晶硅方块电阻降低10％,而结电容和结漏电流也相应分别降低3％和50％,此外,相比于单独的SPK退火,LSA和SPK共同退火的方式也具有更好的阈值电压卷曲曲线和本征特性曲线特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张冬明		1	1	1.0	1.0
2	刘巍		3	1	1.0	1.0
3	张鹏		1	1	1.0	1.0