射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化

• 作者: 李东临 李合增 王怡 郭瑞
• 来源期刊: 真空
• 学科: 化学
• 关键词: 射频磁控溅射 ZnO薄膜 薄膜结构 透射谱
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: O614.41
• 字数: 3738字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2015.04.13

摘要

用射频磁控溅射制备 ZnO 薄膜，研究了溅射功率、溅射气体中氧氩以及工作气压对薄膜结构和光学性能的影响。通过对不同制备条件下的薄膜结构和薄膜的室温透射谱的分析，得到了磁控溅射制备ZnO薄膜的最佳工艺参数。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王怡	北京石油化工学院数理系	23	121	6.0	10.0
2	李合增	北京石油化工学院数理系	11	57	4.0	7.0
3	郭瑞	北京石油化工学院数理系	7	15	2.0	3.0
4	李东临	北京石油化工学院数理系	11	30	3.0	5.0