原位XPS分析Al2O3作为势垒层的Er2O3/Si结构

• 作者: 买买提热夏提·买买提 亚森江·吾甫尔 阿布都艾则孜·阿布来提 高宝龙
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD)技术 Er2O3薄膜 Al2O3薄膜 X射线光电子能谱(XPS) 高k材料
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 半导体材料
• 页码范围: 394-399
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.21
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2017.05.013

摘要

在超高真空条件下,通过脉冲激光沉积(PLD)技术制作了Er2O3/Al2O3/Si多层薄膜结构,原位条件下利用X射线光电子能谱(XPS)研究了Al2O3作为势垒层的Er2O3与Si界面的电子结构.XPS结果表明,Al2O3中Al的2p芯能级峰在低、高温退火前后没有变化;Er的4d芯能级峰来自于硅酸铒中的铒,并非全是本征氧化铒薄膜中的铒;衬底硅的芯能级峰在沉积Al2O 3时没有变化,说明Al2O3薄膜从沉积到退火不参与任何反应,与Si界面很稳定;在沉积Er2O3薄膜和退火过程中,有硅化物生成,表明Er2O3与Si的界面不太稳定,但随着Al2O3薄膜厚度的增加,其硅化物中硅的峰强减弱,含量减少,说明势垒层很好地起到了阻挡扩散的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阿布都艾则孜·阿布来提	新疆大学物理科学与技术学院	13	24	2.0	4.0
2	亚森江·吾甫尔	新疆大学物理科学与技术学院	19	15	2.0	3.0
3	买买提热夏提·买买提	新疆大学物理科学与技术学院	33	54	4.0	6.0
4	高宝龙	新疆大学物理科学与技术学院	2	2	1.0	1.0