半导体技术期刊
出版文献量(篇)
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半导体技术

Semiconductor Technology

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影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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5044
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  • 作者: 冯志红 房玉龙 杨瑞霞 王波 郭艳敏 马文静
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  801-812,819
    摘要: 因蓝宝石具有良好的稳定性能,且其生产技术成熟,是目前异质外延GaN应用最广泛的衬底材料之一.采用图形化蓝宝石衬底技术可以降低GaN外延层材料的位错密度,提高LED的内量子效率,同时提高LED...
  • 作者: 于海洋 徐华超 陈新伟
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  813-819
    摘要: 采用VIS 0.40 μm BCD工艺,设计并实现了一种带有修调技术的应用于温度补偿晶体振荡器(TCXO)的新型五次方电压发生器电路,该五次方电压发生器电路主要由五次方电压产生电路与修调电路...
  • 作者: 刘锡锋 居水荣 瞿长俊 石径
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  820-826,875
    摘要: 设计了一款高输出电压情况下的高精度低功耗电压基准电路.电路采用了比例采样负反馈结构达到较高和可控的输出电压,并利用曲率补偿电路极大地减小了输出电压的温度系数.针对较宽输入电压范围内的超低线性...
  • 作者: 于国浩 付凯 张宝顺 张志利 李淑萍 蔡勇
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  827-832,875
    摘要: 介绍了一种直接利用离子注入机对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的栅下进行氟(F)离子注入的方法,成功实现了增强型HEMT器件,阈值电压从耗尽型器件的-2.6V移动到增强型...
  • 作者: 廖之恒 李世伟 郭春生 高立
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  833-837,843
    摘要: 用现有的红外法测量的GaN基HEMT器件结温,比实际最高温度点的温度低.而用喇曼法测量结温对设备要求高且不易于操作.针对现有技术对GaN基HEMT器件结温的测量存在一定困难的问题,设计了一款...
  • 作者: 王彦 王胜利 王辰伟 田胜骏 田骐源 腰彩红
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  838-843
    摘要: 研究了阴离子表面活性剂十二烷基硫酸铵(ADS)在弱碱性铜抛光液中对晶圆平坦化效果的影响.对不同质量分数的阴离子表面活性剂ADS下的抛光液表面张力、铜去除速率、抛光后铜膜的碟形坑高度、晶圆片内...
  • 作者: 刘玉岭 季军 张文倩 杜义琛 王辰伟 韩丽楠
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  844-849
    摘要: TaN由于其良好的性能广泛用于布线铜与介质之间的阻挡层和黏附层.在对直径为300 mm的TaN镀膜片进行化学机械抛光(CMP)后,对比并分析了两种碱性抛光液对TaN去除速率、片内非均匀性、去...
  • 作者: 史金超 张伟 徐卓 李锋 王红芳 王英超
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  850-854
    摘要: 钝化发射极和背面电池(PERC)技术可有效提高电池效率,在常规p型电池的背面增加了钝化层,并形成了局部背表面场(LBSF)结构.介绍了PERC结构电池的工艺流程,分析了背场(BSF)的形成机...
  • 作者: 冷国庆 刘江 朱涛 温家良 潘艳 王耀华 金锐 高明超
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  855-859,880
    摘要: 使用TCAD仿真软件对3 300 V沟槽栅IGBT的静态特性进行了仿真设计.重点研究了衬底材料参数、沟槽结构对器件击穿电压、电场峰值等参数的影响.仿真结果表明,随衬底电阻率增加,击穿电压增加...
  • 作者: 吕春富 惠峰 肖祥江 董汝昆
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  860-863,869
    摘要: 采用垂直梯度凝固(VGF)法生长单晶时,其温度梯度较低,生长速率较小,目前已成为生长大直径、低位错密度晶体的主流技术之一.在VGF法生长单晶的过程中,籽晶的熔接工艺直接影响着单晶生长的成败....
  • 作者: 张军杰 李保忠 秦典成 肖永龙 黄奕钊
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  864-869
    摘要: 基于热电分离式设计理念,将AlN陶瓷片金属化后作为微散热器嵌入FR4材料内形成了复合散热基板.采用电镜扫描、光学显微,通过冷热循环冲击试验对FR4与AlN两相界面处在高低温突变情况下的界面形...
  • 作者: 于浩 尚玉玲 李春泉 谈敏
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  870-875
    摘要: 为避免传统的探针检测对硅通孔(TSV)造成损伤的风险,提出了一种非损伤的TSV测试方法.用TSV作为负载,通过环形振荡器测量振荡周期.TSV缺陷造成电阻电容参数的变化,导致振荡周期的变化.通...
  • 作者: 刘栋 彭军华 窦金龙 邹平
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  876-880
    摘要: 为了改善由串联不均压引起的晶闸管失效问题,从晶闸管的选配和测试原理出发,详细分析了通态电流和器件温度等因素对串联选配的影响.提出了一种新颖的晶闸管串联均压的检验方法,并搭建了一个可以在一个周...

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

半导体技术评价信息

期刊荣誉
1. 中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)
2. 中国科技论文统计用刊
3. 中文核心期刊

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