不同直径张应变锗材料对光谱和晶体质量的影响

• 作者: 孙钦钦 林抒毅 汪涵聪 谢文明 陈炳煌 黄诗浩
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 绝缘体上锗 张应变 锗浓缩 绝缘体上硅(SOI) 晶体质量
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 半导体材料
• 页码范围: 305-309
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.11
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2017.04.011

摘要

绝缘体上张应变锗材料是通过能带工程提高锗材料光电性能得到的一种新型半导体材料,在微电子和光电子领域具有重要的应用前景.采用微电子技术中的图形加工方法以及利用锗浓缩的技术原理,在绝缘体上硅(SOI)材料上制备了绝缘体上张应变锗材料.喇曼与室温光致发光(PL)测试结果表明,不同圆形半径的绝缘体上锗材料张应变均为0.54％.对于绝缘体上张应变锗材料,应变使其发光红移的效果强于量子阱使其发生蓝移的效果,总体将使绝缘体上张应变锗材料的直接带发光峰位红移.同时0.54％张应变锗材料的直接带发光强度随着圆形半径的增大而减弱,这主要是因为圆形半径大的样品其晶体质量较差.该材料可进一步用于制备锗微电子和光电子器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈炳煌	福建工程学院信息科学与工程学院	11	15	2.0	3.0
2	黄诗浩	福建工程学院信息科学与工程学院	4	3	1.0	1.0
3	孙钦钦	福建工程学院软件学院	3	3	1.0	1.0
4	谢文明	福建工程学院信息科学与工程学院	8	2	1.0	1.0
5	汪涵聪	福建工程学院信息科学与工程学院	3	0	0.0	0.0
6	林抒毅	福建工程学院信息科学与工程学院	8	6	2.0	2.0