高压退火气氛对溶液法制备a-IGZO薄膜光学特性的影响

• 作者: 向超 李勇男 殷波 汤猛 潘东 钟传杰
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 退火气氛 椭圆偏振光谱 溶液法 a-IGZO薄膜
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 半导体器件与工艺
• 页码范围: 690-694
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.05
• 语种: 中文
• DOI: 10.13911/j.cnki.1004-3365.170533

摘要

利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影响.实验结果表明,当退火气氛为O2时,压强由0.1 MPa增加到1.5 MPa,薄膜的光学带隙由3.23 eV增大到3.31 eV,表面粗糙层由6.77nm降低到4.77 nm.与N2气氛相比,1.5 MPa O2气氛下薄膜的光学带隙有所提高,表面粗糙度也有所降低.因此,在1.5 MPa O2气氛下,可以有效降低薄膜内部有机物的残留及缺陷,形成更加致密的非晶a-IGZO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟传杰	江南大学物联网工程学院	53	90	5.0	7.0
2	汤猛	江南大学物联网工程学院	5	3	1.0	1.0
3	殷波	江南大学物联网工程学院	8	30	3.0	5.0
4	李勇男	江南大学物联网工程学院	6	8	2.0	2.0
5	向超		9	0	0.0	0.0
6	潘东	江南大学物联网工程学院	4	0	0.0	0.0