脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响

• 作者: 刘婵 李晓敏 武英桐 王东伟 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 碳膜 脉冲负偏压 硬度
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 69-73
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.02.14

摘要

通过直流磁控溅射技术在基体(硅片、高速钢、钢片)上沉积碳膜.保持其它工艺参数基本恒定,探究薄膜在100V-400V脉冲负偏压下,结构和性能的变化规律.实验结果表明,这种碳膜为非晶态硬质薄膜,具有较好表面形貌,且随着脉冲偏压数值的逐渐增加,其厚度、沉积速率和硬度均呈现先增大后减小的趋势,而摩擦系数则先减小后增大.当脉冲负偏压为200 V时,薄膜具有最佳的力学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	李晓敏	天津师范大学物理与材料科学学院	4	0	0.0	0.0
3	武英桐	天津师范大学物理与材料科学学院	4	0	0.0	0.0
4	王东伟	天津师范大学物理与材料科学学院	3	0	0.0	0.0
5	刘婵	天津师范大学物理与材料科学学院	5	2	1.0	1.0