真空期刊
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898

真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
文章浏览
目录
  • 作者: 张浙军 董镛
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  1-7
    摘要: 阐述窗户在建筑节能中的重要作用,指出LOW-E玻璃是当今节能效果最好的环保玻璃.介绍建筑节能设计标准以及市售LOW-E玻璃的品种及性能,强调LOW-E玻璃的地区适应性及在南方炎热地区的合理选...
  • 作者: 周红 戴华 沈耀
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  8-12
    摘要: 提出使用数字CCD拍摄光干涉条纹,使用图像处理软件进行灰度值扫描分析光干涉条纹的方法,对不透明薄膜进行光干涉法测厚.数字CCD和图像处理软件的结合使用能够最大限度的降低目测带来的误差,并且也...
  • 作者: 孙贵磊 张越举 李晓杰 王小红 闫鸿浩
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  13-15
    摘要: 爆轰法合成纳米氧化铁,具有工艺设备简单、成本低、操作方便等优点.不同的外界条件对生成产物的形状、性质以及晶粒大小有一定影响.本文基于相同实验材料及实验温度的基础上,使反应物在不同压力环境中爆...
  • 作者: 李保元
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  16-18
    摘要: 本文对多弧离子镀在不锈钢板上沉积TiN涂层的均匀性进行了研究,分析了影响涂层均匀性的主要因素.结果表明,弧基距、磁场强度、气体压力及基片温度对涂层的均匀性起着决定性的作用.
  • 作者: 巴德纯 李明 王凤 蔺增
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  19-21
    摘要: 提出一种新型复合固体润滑膜,并讨论了该复合膜的结构和作用机理.复合结构的基本组成是传统硬质涂层TiN和TiC的结合,最上面的固体润滑膜是用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)方法沉...
  • 作者: 林钰 辛荣生
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  22-24
    摘要: 本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析, 并测量了薄膜电阻率及透光率随薄膜厚度的变化情况.实验结果表明,当控制薄膜厚度...
  • 作者: 刘绪伟 卢景霄 杨仕娥 谷锦华 赵剑涛 郜小勇 陈永生
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  25-28
    摘要: 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质本征和掺磷纳米硅薄膜,并利用Raman散射谱和电导率谱对比研究了磷掺杂对纳米硅薄膜的电子输运性质的影响.研究结果表明...
  • 作者: 唐桢安 徐军 李新 鲍海飞
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  29-31
    摘要: 微机电系统(MEMS)的研究引起了人们的极大关注,摩擦行为是影响MEMS性能的关键因素之一.本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚...
  • 作者: 张光勇 王汉华 薛亦渝 郭培涛 马中杰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  32-35
    摘要: 本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量.用分光光度...
  • 作者: 付恩刚 庄大明 张弓 杨伟方
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  36-38
    摘要: 综述了ZAO透明导电薄膜的光电特性及其导电机理、制备技术与研究现状,认为ZAO薄膜在平板显示、太阳能电池和低辐射器件领域具有广泛的应用前景,要达到工业应用还需对一些关键问题进行系统的研究.
  • 作者: 刘欣杰 劳晓东 韩会民
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  39-42
    摘要: 针对PECVD中等离子体的密度沿径向分布均匀性较差、空间气氛化学活性较差的问题,在PECVD的基础上加入电子发射源和正交电磁场以控制电子的运动,从而增强等离子场的强度和范围,使反应场的活力增...
  • 作者: 唐镇松 张云峰 王逊
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  43-44
    摘要: 本文介绍石英真空计的原理及石英晶振的特性.
  • 作者: 成永军 李得天 邱家稳 郭美如
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  45-47
    摘要: 提出了用线性真空规测量小孔分子流流导的方法,该方法利用了线性真空规两次测量压力的比值,避免了真空规测量绝对压力引入的不确定度,从而有效减小了小孔流导的测量不确定度.文章介绍了小孔流导的测量原...
  • 作者: 侯生军 张军辉 张喜平 张素平 杨晓天 胡振军 蒙峻 赵玉刚
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  48-51
    摘要: 分析了在分子流态下差分真空系统中充气气流效应的存在,通过引入了差分比,定量计算出充气气流效应对差分真空系统的影响.
  • 作者: 中国真空学会薄膜专业委员会
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  51
    摘要:
  • 作者: 原洛渭 高利强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  52-54
    摘要: 炉室是单晶炉的中心环节,内置坩埚、晶体材料、加热系统和保温罩等.直拉法是在半导体领域中应用最广,产量最大的单晶制备方法.本文以提拉法单晶炉为例先介绍不同于其它设备的各种炉室结构、形状及原因,...
  • 作者: 商玉玲 徐法俭 赵彩霞
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  55-58
    摘要: 探讨了真空泵系统中冷却装置的方案,定性讨论了真空系统级间冷却方式的选择,给出了理论选型原则,通过实例分析,指出在真空系统工程设计中,需要给出系统工程化解决方案,更能保证真空系统高效安全运行.
  • 作者: 周锦宝 张彩霞 薛纪钦 邓秉林
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  59-62
    摘要: 注入器真空系统的改造由为各种微波功率源系统服务的真空系统和常规真空系统组成,根据实践工作中的着重点,详细介绍了注入器真空系统工作特点,并从原理及工艺上对各种新改造的子系统如电子枪真空系统、正...
  • 作者: 刘汉林 刘立宁 刘育宁
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  63-65
    摘要: 本文分析了电磁隔断/充气阀在上电和失电过程中向真空系统返大气的原因,并通过试验介绍了所开发的SD系列专利电磁隔断/充气阀在任何情况下(开机,关机,突然停电和误操作)都不返大气和油蒸汽的优越性...
  • 作者: 于照洋 姚应峰 张耀平
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  66-68
    摘要: 真空管道运输的可行性已经得到国内外专家的论证.但是作为其主要的推动力部件直线电机,在真空环境下工作所产生的热量累积是一个不可忽视的问题.为此,本文设计了两种不同的冷却方案,方案(a)和方案(...
  • 作者: 马强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  69-71
    摘要: 本文介绍了工频NbTi超导线材井式真空氮气保护热处理炉的设备组成、主要技术参数、结构特点和两种热处理状态下试验数据的对比分析,并指出了该设备在NbTi超导线材制造行业推广应用的前景.
  • 作者: 张余进 邱实
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  72-75
    摘要: 针对溅射离子泵高压电源应具有的负阻特性,本文详细介绍了负阻性DC/DC开关电源控制电路的组成和工作原理.在此基础上,成功研制了一台输出电压根据真空系统气体压力连续自动调节,可短路工作的高压D...
  • 作者: 姜翠宁 黄启耀
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  76-78
    摘要: 在射频溅射镀膜中,射频电源的反射功率偏大和靶打火一直是困扰行业的问题,本文从理论上说明射频系统和网络匹配问题,并结合实际和试验,讨论如何降低反射功率和减少靶打火的问题,并提供解决问题的相关资...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  78
    摘要:
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  79-80
    摘要:
  • 作者: 陆国柱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  插4
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  插1
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空评价信息

期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
2. 工程技术类核心期刊

真空统计分析

被引趋势
(/次)
(/年)
学科分布
研究主题
推荐期刊
  • 期刊分类
  • 最新期刊
  • 期刊推荐
  • 相关期刊