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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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31. 新型高阻隔有机氧化硅薄膜制备刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 采用等离子体化学聚合,在氧化硅层表面聚合单层甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)改善其脆性,提高氧化硅薄膜阻隔性能和柔韧性能的研究.通过无机氧化硅层和有机GMA层交叠沉积来研究不同沉积参数对薄膜的...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 以镀有Ti层的Al2O3为衬底,在微波等离子体化学气相沉积系统中,以CH4和H2为反应气体,快速制备了链状碳纳米管薄膜(沉积时间仅1 min).通过SEM、TEM和Raman光谱观察了薄膜的...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 用直流反应磁控溅射方法在透明平面玻璃上制备出Al掺杂ZnO薄膜,并对其结构和温差电动势率进行研究.实验结果表明,所制备样品具有C轴择优取向的多晶结构,温差电动势随着温差(△T)的增大而呈线性...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 对大尺寸镜而镀膜,膜层的均匀性是影响膜层各项性能的重要因素.本文从理论出发,分析并选择了电阻丝热蒸发中点蒸发源的发射特性,合理地选择了点蒸发源的分布形式并与LAMOST的MA子镜建立数学模型...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： CuInSe2是优异的薄膜太阳能电池吸收层材料.本文在玻璃衬底上真空蒸镀Cu-In多层膜后,硒化制得了CuInSea多晶薄膜.通过SEM和XRD微观形貌结构分析发现,薄膜的晶粒分布比较均匀,...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 分析三层共挤流延MCP薄膜生产工艺对真空蒸镀后铝层附着牢度的影响.选择合适的原料树脂、膜面进行适当的电晕处理以及MCP薄膜的熟化,对提高VMCPP薄膜铝层附着牢度有着重要的作用.
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在单晶硅(100)晶面上制备了掺氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜样品.用傅立叶变换吸收红外光谱(FTIR)、扫描电镜和金相显微镜分析了薄膜的组分和结构及...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,电源是磁控溅射镀膜的关键设备之一.本文介绍了全桥逆变直流磁控溅射电源主电路和控制电路的设计,该电源输出功率2 kW,采用PI恒流控制,具有过流保护.通过阻...
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39. 信息刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要：
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40. 真空开关电弧形态的实验研究刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要： 真空电弧形态的研究对真空开关能否有效控制和保护电路有着重要的影响.本文设计了真空开关电弧实验系统,建立了基于高速摄像设备CMOS的真空开关电弧采集系统.通过该采集系统可以每秒200,000帧...
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41. 第十六讲 真空系统的操作与维护刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要：
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42. 会议信息刊名： 真空发表期刊： 2008年2期页码:摘要：
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43. 真空冷冻干燥的现状与展望(二)刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 本文从真空冷冻干燥的理论、设备、工艺和应用几个方面介绍其发展的历史和现状,讨论未来的发展趋势.现代真空冷冻干燥理论研究的重点是微纳尺度和超常传热传质;设备的发展方向是连续式冻干设备和过程控制...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 真空冷冻干燥技术是将含水物料在低温状态下冻结,然后在真空条件下,使冰直接升华成水蒸气并排掉脱水物料中的水分使物料干燥.因此真空冷冻干燥产品可以最大限度的保持新鲜物料的原有色、香、味.形和营养...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 通过电子枪的优化设计、测量电路的设计以及测量方法的选择,成功设计了一种加速器真空室常用材料二次电子产额的测量装置.用此系统测量了原电子能量在0～3 keV时不锈钢、无氧铜、TiN膜等材料的二...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 研究了不同稀土元素含量的Cu-Cr触头材料在低真空条件下的电击穿性能,通过试验测量不同稀土元素含量Cu-Cr触头材料的耐电压强度和阴阳两极间电压与距离的关系曲线.结果表明,稀土元素的加人可以...
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47. 会议消息刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450mm×450mm(φ650mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 对AISI304奥氏体不锈钢进行了不同C2H2含量下的离子碳氮共渗,利用金相显微镜、辉光放电光谱仪、x射线衍射仪和显微硬度计测试了经碳氮共渗处理后试样改性层的截面形貌、渗层成分、相组成和力学...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 介绍了宝钢一炼钢4#RH中投入的水环泵和蒸汽喷射真空泵的组合泵形式的应用,描述了这个1500 kg/h真空泵系统的没备布置和技术参数,并给出了实际的运行模式和最终的性能测试结果.最后强调了其...
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51. 大型真空电阻炉的研制刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： ZR-900-13W真空钎焊炉是我公司研制的新型真空钎焊炉.该没备采用多温区智能控温,具有控温精度高、温度均匀性和重复性好;具有手动/自动温度控制、多条热工曲线设定和存贮功能;配备大容量数据...
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52. 真空自耗电弧炉真空系统的检漏刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 主要论述了用于生产钛及钛合金铸锭的真空自耗电弧炉真空系统的组成与特点,针对钛、钛合金的冶金特点及生产实际,阐述真空系统漏率对于生产钛、钛合金的意义;应用最新技术的莱宝300型检漏仪,对真空系...
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53. 磁控溅射抗EMI金属膜的研究刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 首先对金属屏蔽的机理以及Schelkunoff电磁屏蔽理论进行了分析,然后采用磁控溅射的方法在PET塑料上沉积了Cu/1Cr18Ni9Ti,并采用波导的方法对样品的屏蔽效能进行了测试.研究表...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 研究了在AZ31镁合金表面依次进行浸锌、化学镀镍、电镀铜、电弧离子镀Cr/CrN的复合镀膜工艺.利用x射线晶体分析仪、扫描电镜、显微硬度计、腐蚀测量系统及热震法等仪器和方法对复合镀层的显微组...
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55. 非晶硅薄膜的沉积速率研究刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 利用PECVD方法在硅片上制备了非晶硅薄膜,通过正交实验得出影响薄膜沉积速率和折射率的主要参数为气体流量和射频功率,分别研究了这两个参数对沉积速率和折射率的影响.结果表明:当气体流量低于24...
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56. 反应磁控溅射研究进展刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 本文综述了反应磁控溅射技术的发展状态.分析了迟滞效应以及消除该效应的方法.这些方法.采用单极或双极脉冲技术可以有效的削除孤光现象.最后展望了反应磁控溅射的发展趋势.
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 利用电子束蒸发技术制备ITO透明导电膜,研究了衬底温度,氧分压以及沉积速率的变化对薄膜光电特性的影响,结果表明在衬底为350℃,氧分压为2.0×10-2 Pa,沉积速率在3 nm/min的条...
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58. 信息刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 利用超高真空脉冲直流磁控溅射技术制备了纳米量级厚度的CNx薄膜.利用自行设计的一种简单的探针测定了薄膜合成中的等离子体参数,获得了等离子体参数与合成工艺参数的关系.结果表明:在300W的靶功...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年3期页码:摘要： 主要介绍了通过上位机、可编程控制器、变频器调速系统控制双边直线磨边机开合位置控制的设计方案及特点,并对控制系统位置环、速度环的实现位置控制进行全面的讨论,给出了系统控制数学模型及控制方法,从...
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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