射频功率对FN-DLC薄膜粘附性的影响

• 作者: 肖剑荣 蒋爱华
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: FN-DLC薄膜 化学键 粘附性
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 67-69
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 1678字
• 语种: 中文

摘要

利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在单晶硅(100)晶面上制备了掺氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜样品.用傅立叶变换吸收红外光谱(FTIR)、扫描电镜和金相显微镜分析了薄膜的组分和结构及表面形貌.红外分析表明,FN-DLC薄膜中主要有C-Fx(x=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3和C=C化学键等.功率增加时,薄膜内C-C、C=C键含量相对增加,F浓度的相对含量降低,薄膜的粘附性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖剑荣	桂林工学院数理系	9	25	3.0	4.0
2	蒋爱华	桂林工学院数理系	5	2	1.0	1.0