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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年4期页码:摘要： 本文介绍了移相谐振控制器UC3875的电气特性与基本功能,详细分析了以UC3875作为控制核心设计的一台1.2 kW、70 kHz的移相式ZVZCS PWM软开关直流电源,并运用PSpice...
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92. 全脉冲电路气体-金属离子注入源刊名： 真空发表期刊： 2008年4期页码:摘要： 本文报道了新型全脉冲电路气体一金属复合离子注入源的结构和特性,采用在磁场约束条件下的脉冲引发的气体等离子体,分别引发气体放电和金属弧放电.详细描述放电过程的伏一安特性曲线.以及对引出离子束流...
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93. 第十六讲真空系统的操作与维护刊名： 真空发表期刊： 2008年4期页码:摘要：
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94. 迎接太阳能光伏产业发展的新高潮刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 介绍百年来太阳能电池(光伏)发展历程与现状,结合国家<可再生能源中长期发展规划>及(可再生能源发展十一五规划>指明我国光伏产业发展的光明前景.分析晶体硅电池及薄膜电池产业链各个环节中的真空技...
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95. 书讯刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 本文以无机化合物硫酸铜和氢氧化钠为原料,选取铜氨络合物为前驱体,采用冷冻干燥法制备出氧化铜纳米粉体.粉体形态分别为粒径为20～50 nm的实心颗粒和粒径大于200 nm带有约10 nm均匀孔...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 阐述了真空冷冻干燥机的原理和传统的加热方式,分析了冻干机采用压缩机排气热量加热物料以节约能源的可行性,提出了直接利用压缩机排气加热的改进方法,同时提出了利用冷却水作为低温热源的水源热泵供热方...
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98. 基于射频识别技术的冻干工艺刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 在冻干工艺中,由于各种物料的含水量和成分不同,所采取的冻干曲线也不同.本文提出一种利用射频识别技术的方法.在所需要冻干的物料上贴上射频标签,标签中包含冻干材料的识别码,然后由安装在冻干机械上...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 本文运用有限元分析软件ANSYS对涡旋真空泵动、定涡旋盘的温度场及其产生的热变形、应力场进行了模拟和研究.模拟结果与实测数据进行了对比.首先对无油涡旋真空泵动、定涡旋盘体使用UG软件三维实体...
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100. 真空容器充气时间计算公式的讨论刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 真空容器充气时间的计算,徐树深、夏正勋均推导出了真空容器充气时间的计算通式.本文从壅塞流的角度,认为徐树深等的公式仅适用于亚音速充气.本文给出了判别音速充气与亚音速充气的临界压力,并推导出了...
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101. SF6开关柜检漏回收系统真空箱设计刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 目前在输变电行业中,对于高电压大电流的开关设备都采用SF6气体绝缘金属封闭保护.其优点是占用空间少,布置紧凑,SF6气体作为绝缘和灭弧介质,能够实现高压开关的快合,快分,性能不受操作者的技术...
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102. 信息刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要：
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103. 低能宽束离子源的研究进展刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 低能宽束离子源是离子束沉积、刻蚀和表面改性系统的核心部件,综述了考夫曼、射频等离子体、电子回旋共振等离子体、无栅网等四种离子源的等离子体的产生方式,对结构重点进行了分析,并从参数性能上进行了...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文首先利用朗谬耳探针对基底附近的等离子体特性进行了诊断,考察了离子...
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105. 电子束蒸发法制备TiO2薄膜的折射率研究刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 用电子束蒸发法制备TiO2薄膜,并对其进行300℃、400℃、850℃热处理和掺杂.详细研究了工艺参数、热处理和掺杂对TiO2薄膜折射率的影响.实验结果表明:镀制高折射率的氧化钛薄膜最佳工艺...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 通过射频反应磁控溅射在玻璃基片上制备TiO2薄膜.采用X射线衍射仪、Ranman光谱仪和原子力显微镜研究退火温度对薄膜晶体结构和表面形貌的影响;还探讨了磁控溅射氧分压对薄膜性能的影响.结果表...
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107. 磁控溅射法镀制红外低辐射膜的研究进展刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 本文介绍了采用磁控溅射法在玻璃和柔性衬底上镀制红外低辐射薄膜的研究进展.根据国内外的研究现状,对薄膜的节能原理、制备方法、膜层结构及其光学、热学性能进行了综述,较详细地论述了目前低辐射薄膜研...
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108. 会议消息刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 采用电子束蒸镀的方法,以有机玻璃为基材,在其表面蒸镀铬过渡层,再蒸镀铝,最后蒸镀保护层二氧化硅.实验结果表明:增加铬过渡层的样品,铝膜结合的非常牢固,附着力得到很大的提高.和未蒸镀二氧化硅保...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素.为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(meta...
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111. ZnO薄膜的制备方法、性质和应用刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 介绍了宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺、主要性质和器件应用等几方面内容.ZnO薄膜的制备方法大致分为物理法和化学法.前者主要包括溅射、脉冲激光沉积和分子束外延等;后者则涵盖化学气相沉积、喷雾...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 采用RF-PECVD技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质微晶硅薄膜,并深入研究了硅烷浓度对微晶硅薄膜微结构及电学性质的影响.研究结果表明,微晶硅薄膜的沉积速率、平均晶粒尺寸、晶化率和电导率均呈现...
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113. 脉冲激光沉积ZnO薄膜的制备及其性能研究刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 本文用脉冲激光沉积(PLD)法在SiO2基片上制备了ZnO薄膜和Zn1-xMnxO薄膜.X射线衍射、原子力显微镜、紫外-可见光分光光度计对ZnO薄膜的测试结果表明:薄膜具有(103)面的择优...
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114. 保护气氛铝箔真空退火炉的研制刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 铝箔作为一种在工业及民用广泛应用的产品,其在制造过程中软化退火工序是保障产品质量的重要一环.本文就铝箔的结构特点及制作工艺,分析了铝箔用外热式真空炉退火的特点,指出了在保护气氛下真空退火比其...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 介绍了高真空磁场热处理装置的结构、性能特点,并给出其相关参数.本装置可对炉腔直接抽真空,使磁场热处理过程更为简单.采用双温控器使炉腔内温度测控更为准确.设计过程中既保证炉腔内磁场(Hmax=...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要： 继续沿用传统PS版的计算机直接制版技术(CTP)对于我国的印刷包装行业具有特殊重要的意义.本文利用占空比可调的脉冲射频低温等离子体电源激励氮气等离子体,通过测量辐射光功率密度,从不同占空比、...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年5期页码:摘要：
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118. 迎接太阳能光伏产业发展的新高潮(二)刊名： 真空发表期刊： 2008年6期页码:摘要： 介绍百年来太阳能电池(光伏)发展历程与现状,结合国家<可再生能源中长期发展规划>及<可再生能源发展十一五规划>指明我国光伏产业发展的光明前景.分析晶体硅电池及薄膜电池产业链各个环节中的真空技...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年6期页码:摘要： 采用射频源原子氧装置对PET薄膜材料进行不同时间的暴露试验.研究了氧等离子体暴露对PET薄膜的质量损失、表面形貌、接触角的影响,并对暴露前后PET薄膜进行了红外光谱(FTIR)分析.结果表明...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年6期页码:摘要： 电阻加热具有比较好的加热均匀性,可以认为对于非升华性材料,具有比较理想的平面源发射特性n=1.而电子束加热时,通常n=2～3,甚至可以为6,发射特性参数的范围大,没有取值指导理论或规律,具有...
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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