低介电常数材料在超大规模集成电路工艺中的应用

• 作者: 利定东 许志 赵智彪
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 低介电常数材料 集成电路工艺
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 4-6,45
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 2487字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.02.002

摘要

本文概述了低介电常数材料(Low k Materials)的特点、分类及其在集成电路工艺中的应用.指出了应用低介电常数材料的必然性,最后举例说明了低介电常数材料依然是当前集成电路工艺研究的重要课题,并展望了其发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	利定东	应用材料中国公司上海浦东张江高科	5	30	1.0	5.0
2	许志	应用材料中国公司上海浦东张江高科	4	35	2.0	4.0
3	赵智彪	应用材料中国公司上海浦东张江高科	2	31	1.0	2.0