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摘要:
给出了n型和p型4H-SiC的二级喇曼谱的实验结果.指认了所观察到的一些光谱结构对应的特定声子支及其在布里渊区中相应的对称点.发现在4H-SiC的二级喇曼谱中存在能量差约为10cm-1 的双谱线结构,这一结构与六方相GaN,ZnO和AlN的双谱线结构具有相同的能量差.二级喇曼谱的截止频率对于不同掺杂情况的4H-SiC具有相同的值.它并不等于n型掺杂4H-SiC的A1(LO)声子的倍频,而是等于未掺杂样品的A1(LO)声子的倍频.掺杂类型和杂质浓度对4H-SiC的二级喇曼谱几乎没有影响.
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文献信息
篇名 n型和p型4H-SiC的二级喇曼谱
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 4H-SiC 二级喇曼谱 截止频率
年,卷(期) 2004,(12) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 1555-1560
页数 6页 分类号 O472.3
字数 3144字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.12.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李晋闽 中国科学院半导体研究所新材料实验室 75 652 13.0 23.0
2 孙国胜 中国科学院半导体研究所新材料实验室 28 244 9.0 15.0
3 王雷 中国科学院半导体研究所新材料实验室 192 2018 26.0 36.0
4 赵万顺 中国科学院半导体研究所新材料实验室 17 77 5.0 8.0
5 曾一平 中国科学院半导体研究所新材料实验室 85 439 11.0 16.0
6 高欣 中国科学院半导体研究所新材料实验室 46 202 9.0 12.0
7 张永新 兰州大学物理学院 1 1 1.0 1.0
传播情况
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
4H-SiC
二级喇曼谱
截止频率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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