Al含量对非平衡磁控溅射制备Ti1-xAlxN膜性能的影响

• 作者: 于大洋 刘艳文 巴德纯 张以忱 马胜歌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 硬质膜 Ti1-xAlxN 非平衡磁控溅射 Al含量
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TB43
• 字数: 2855字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.03.001

摘要

将电弧离子镀和中频非平衡磁控溅射工艺相结合制备了Ti1-xAlxN薄膜.利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪、摩擦磨损仪等分析检测仪器研究了不同Al含量Ti1-xAlxN薄膜的性能.结果表明:随Al含量增加,沉积速率变大;各种Al含量的膜层中都有Ti1-xAlxN相;当X为51 at.%时薄膜有最高的显微硬度2741.8 HV,此时摩擦系数达到最低值0.14;Al含量多时膜层Ti1-xAlxN表面粗糙;各种Al含量的膜层与基体的结合力大致相同,临界载荷都在16～20 N左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱		153	408	11.0	16.0
2	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
3	马胜歌		12	67	6.0	7.0
4	于大洋		4	16	3.0	4.0
5	刘艳文		1	3	1.0	1.0