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摘要:
提出了一种改善npn和横向pnp晶体管放大倍数、扩散致窄电阻(受EB和CB结结深影响的基区电阻)阻值而又不影响其他器件特性的方法.不连续的SiOx可以作为宽禁带半导体材料加在多晶硅和单晶硅的界面处来提高横向pnp晶体管的放大倍数,使其从目前的23提高到30;连续的SiOx作为优秀的绝缘材料覆盖在发射极多晶硅表面,可以确保As在快速热处理后的分布,结果表明npn型晶体管的放大倍数从170降低到110的同时增加了扩散致窄电阻的阻值.这种方法的优点在于利用了极易制造的SiOx改善了半导体器件特性,具有极高的实际应用价值.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 氧化硅在改善双极型晶体管特性上的作用
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 氧化硅 双极型晶体管 放大倍数
年,卷(期) 2008,(2) 所属期刊栏目 器件制造与应用
研究方向 页码范围 144-146
页数 3页 分类号 TN79
字数 1720字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.02.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 汪辉 上海交通大学微电子学院 33 81 4.0 7.0
2 王友彬 上海交通大学微电子学院 2 0 0.0 0.0
传播情况
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1979(1)
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2008(0)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氧化硅
双极型晶体管
放大倍数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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