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摘要:
介绍了一种用化学腐蚀进一步降低VB-GaAs晶片翘曲度的方法.通过控制腐蚀液的配比、温度、时间等参数,显著改善了晶片翘曲度.经过腐蚀的切片、研磨片在检验时易于发现裂纹等缺陷,降低了后续工序中的碎片率,综合加工成品率有了明显提高.
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文献信息
篇名 VB-GaAs晶片翘曲度的控制方法
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 垂直布里奇曼法生长的砷化镓 翘曲度 化学腐蚀 光泽度
年,卷(期) 2008,(11) 所属期刊栏目 工艺技术与材料
研究方向 页码范围 1000-1002
页数 3页 分类号 TN604
字数 2348字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.11.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吕菲 中国电子科技集团公司第四十六研究所 24 88 6.0 8.0
2 赵权 中国电子科技集团公司第四十六研究所 30 136 6.0 9.0
3 于妍 中国电子科技集团公司第四十六研究所 8 39 3.0 6.0
4 秦学敏 中国电子科技集团公司第四十六研究所 4 11 2.0 3.0
5 宋晶 中国电子科技集团公司第四十六研究所 8 17 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
垂直布里奇曼法生长的砷化镓
翘曲度
化学腐蚀
光泽度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
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38
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24788
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