基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
研究了DC应力n.MOSFET热载流子退化的Sfγ噪声参量.提出了用噪声参数和Sfγ表征高、中、低三种栅应力下n-MOSFET抗热载流子损伤能力的方法.进行了高、中、低三种栅压DC应力下热载流子退化实验.实验结果和本文模型符合较好.
推荐文章
SOI MOSFET器件的热载流子退化机理
绝缘体上硅
热载流子注入效应
失效机理
可靠性
异质栅MOSFET热载流子效应的研究
异质栅
MOSFET
热载流子效应
MEDICI
一种用于提取LDD结构n-MOSFET热载流子应力下界面陷阱产生的改进方法
热载流子应力
LDD结构
超薄栅氧化层
两步退化机制
电压应力下超薄栅氧化层 n-MOSFET的击穿特性
超薄栅氧化层
斜坡电压
经时击穿
渗透
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 DC应力n-MOSFET热载流子退化的1/f噪声特性
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 n-MOSFET 热载流子效应 1/fγ噪声
年,卷(期) 2008,(7) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1263-1267
页数 5页 分类号 TN386.11
字数 732字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.07.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘宇安 井冈山大学数理学院 11 12 2.0 3.0
2 余晓光 井冈山大学数理学院 43 124 6.0 8.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (3)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1989(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1993(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2008(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
n-MOSFET
热载流子效应
1/fγ噪声
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导