在不同衬底上生长ZnO薄膜及其特性研究

• 作者: 何建廷 李田泽 杨淑连 魏芹芹
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 衬底 脉冲激光沉积 XRD PL AFM
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 12-14
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 2720字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2014.01.004

摘要

在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法(PLD)分别在n-Si(111)、蓝宝石(001)和非晶石英衬底上生长了ZnO薄膜.首先对薄膜进行了X射线衍射(XRD)分析,找出在三种不同衬底上制得的结晶质量最好的ZnO薄膜所对应的最佳衬底温度.然后对最佳衬底温度下得到的ZnO薄膜分别进行了X射线衍射(XRD)、光致发光谱(PL)和原子力显微镜(AFM)分析.结果表明,在硅衬底上生长的ZnO薄膜XRD谱半高宽最小,PL谱特征发光峰强度最强,AFM下的平均粒径最大,说明硅衬底上生长的ZnO薄膜结晶质量最好,而在石英衬底上生长的ZnO薄膜结晶质量最差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李田泽	山东理工大学电气与电子工程学院	79	290	10.0	12.0
2	杨淑连	山东理工大学电气与电子工程学院	47	198	8.0	10.0
3	何建廷	山东理工大学电气与电子工程学院	13	57	5.0	7.0
4	魏芹芹	山东理工大学电气与电子工程学院	16	61	5.0	7.0