酸性蚀刻废液中回收高纯氧化铜

• 作者: 付海涛 周华梅 陈立高
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 酸性蚀刻液 回收 氧化铜 光亮剂
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 微组装技术
• 页码范围: 346-348,351
• 页数: 4页
• 分类号: TN41
• 字数: 2875字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14176/j.issn.1001-3474.2018.06.010

摘要

研究了酸性蚀刻废液回收高纯电镀级氧化铜粉的方法,通过XRD和XPS等测试分析发现,有机物是影响光亮剂消耗和EVF电镀填孔凹陷大的原因,并对有机物进行了有效去除.最终回收所得氧化铜粉的质量分数高达99.0％,杂质含量低,活性高,完全符合电镀级氧化铜粉的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周华梅	上海美维科技有限公司研发部	4	0	0.0	0.0
2	陈立高	上海美维科技有限公司研发部	1	0	0.0	0.0
3	付海涛	上海美维科技有限公司研发部	7	7	1.0	2.0