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AlN陶瓷腔体的激光加工和芯片埋置工艺
AlN陶瓷腔体的激光加工和芯片埋置工艺
作者:
王运龙
郭育华
魏晓旻
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AlN陶瓷
腔体
激光加工
芯片埋置
摘要:
AlN作为陶瓷封装材料具有优异的电性能和热性能.针对高功率、高频多芯片组件高密度组装的需要,采用激光加工技术在AlN陶瓷基片上直接加工腔体结构成型.通过构建激光加工腔体的理论模型,对比试验结果,分析激光功率、频率、扫描速率及加工路径等工艺参数对腔体刻蚀速率、腔体底部粗糙度的影响规律.阐述激光加工遍数与刻蚀深度的线性关系,测试腔体底部的平面度,获得了预定深度的腔体结构.完成了芯片在腔体内埋置,结果表明,激光直接加工的腔体结构可以满足芯片埋置的应用要求.
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氧化
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
AlN陶瓷腔体的激光加工和芯片埋置工艺
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
AlN陶瓷
腔体
激光加工
芯片埋置
年,卷(期)
2022,(1)
所属期刊栏目
微组装技术 SMT PCB|MICRO-ASSEMBLY SMT PCB
研究方向
页码范围
14-17,45
页数
5页
分类号
TN45
字数
语种
中文
DOI
10.14176/j.issn.1001-3474.2022.01.005
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
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引文网络
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参考文献
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(0)
2022(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
AlN陶瓷
腔体
激光加工
芯片埋置
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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