半导体技术期刊
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半导体技术

Semiconductor Technology

CAJSTAJSACSTPCD

影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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  • 作者: 杨定宇 蒋孟衡 贺德衍
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  776-780
    摘要: 电感耦合等离子体(ICP)是一种极具发展前景的低温高密度等离子体源,已经在大规模集成电路的深亚微米刻蚀和大面积均匀薄膜的淀积中得到广泛应用.采用自主设计的ICPCVD设备,在不同的衬底条件和...
  • 作者: 孙以材 杜鹏 潘国锋 邱美艳
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  781-784
    摘要: 用直流磁控溅射法分别在Si及陶瓷管上制备掺有CuO的SnO2纳米薄膜,并用马弗炉进行500 ℃和700 ℃的退火处理.利用气敏测试系统对各样品进行气敏特性测试,500 ℃退火的样品对几种被测...
  • 作者: 何莉剑 张万荣 张蔚 谢红云
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  785-787
    摘要: 针对减少功放的非线性交调失真,提出了一种简单有效的线性化电路设计方法,并以pHEMT功放为例,通过在栅漏之间并联一个变容二极管,对引起非线性失真的pHEMT输入端电容进行补偿,使功率放大器的...
  • 作者: 刘晓东 施艳艳 李淑波
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  788-791,808
    摘要: 波形发生电路为开关线性复合式功率放大器的功率放大单元提供所需频率范围的柔性波形信号.介绍了一种基于直接数字频率合成技术的波形发生电路的设计方案.给出了系统设计的整体思路、主要功能模块电路的硬...
  • 作者: 刘波 宋志棠 封松林 朱加兵 沈菊
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  792-795
    摘要: 介绍了带隙基准电压源的基本原理,设计了一种高精度带隙基准电压源电路.该电路采用中芯国际半导体制造公司0.18 μm CMOS工艺.Hspice仿真表明,基准输出电压在温度为-10~120 ℃...
  • 作者: 沈磊 程君侠 马庆容
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  796-799
    摘要: 从集成电路功耗原理出发,分析了CMOS电路功耗的来源,从集成电路设计的系统级、算法级、架构级、电路/门级以及工艺/器件级五个抽象层次出发,整理、总结了当前主要的低功耗设计方法,并在实际的移动...
  • 作者: 刘泽民 杨志
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  800-803
    摘要: 针对单载波频域均衡系统MMSE均衡器存在残留码间干扰的缺点,提出MMSE-RISIC判决反馈均衡器消除残留码间干扰.MMSE-RISIC均衡器采用传统MMSE均衡后的判决数据,对残留码间干扰...
  • 作者: 于宗光 刘明峰 王成 王月玲 赵娟
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  804-808
    摘要: 在FPGA的设计生产过程中,FPGA的测试是一个至关重要的环节.分析了基于SRAM配置技术的FPGA的结构组成及FPGA的基本测试方法.针对6000门可编程资源的FPGA,提出了一种基于阵列...
  • 作者: 商耀辉 李若凡 杨瑞霞 武一宾 牛晨亮 马永强
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  809-811
    摘要: 电化学C-V法是当前测量化合物半导体载流子浓度纵向分布的非常重要的方法.用电化学C-V测试仪对外高内低、有较大浓度梯度的外延样品进行载流子浓度纵向分布测量时发现,内层低载流子浓度区域测试结果...
  • 作者: 易兴勇 李海军 陈杰
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  812-815
    摘要: 为了降低纳米级芯片设计中功耗主体之一的静态功耗,从产生静态功耗的来源出发,提出了使用多阈值技术降低静态功耗,给出利用多阈值技术的多种实现方法.以COSTARⅡ芯片为实例,利用90 nm多阈值...
  • 作者: 倪卫其 夏保佳 姜伟 张熙贵 张鲲 郑丹
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  816-819
    摘要: 利用硅微机电系统(MEMS)技术,设计并制作了点状、蛇形和点蛇混合三种微型氢/空气质子交换膜燃料电池(μPEMFC)阳极流场板,测定了三种不同阳极结构电池的极化和功率密度曲线、交流阻抗图及燃...
  • 作者: 吕蓬 曾友华 王启明 申继伟 郭亨群
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  820-823
    摘要: 为研究氮化硅薄膜发光材料的制备工艺及其光致发光机制,实验采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料.利用红外光谱(IR)、X射线衍射谱(XRD)、能谱(EDS)和光致...
  • 作者: 飞思卡尔半导体(中国)有限公司
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  824-825
    摘要:
  • 作者: 张伟
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  826
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年9期
    页码:  827-828
    摘要:
  • 作者: 张彬 杨广华 毛陆虹 郭维廉
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  829-832
    摘要: 集成电路工艺发展使得芯片内部的互连成为芯片延时的主要问题.制备出高光效的硅LED已经成为OEIC发展的瓶颈.硅是间接带隙半导体,而且载流子寿命较长.所以使用硅材料制备发光器件是长久以来特别引...
  • 作者: 王华 赵义坤
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  833-835
    摘要: 越来越多的国家开始限制铅在人们生活中的使用.对于电气设备,无铅焊接已经成为产品出口欧盟等国家的先决条件,我国也制定了相应的应对措施.就此对无铅焊接的由来,以及在我国的实施情况进行了阐述,对无...
  • 作者: 钮轶君 钱省三 黄旭
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  836-839
    摘要: 对半导体行业供应链结构的现状进行了分析,对处在供应链上的每个环节进行了描述,并分析了影响整个半导体行业供应链运行效率的主要不确定性因素.在对半导体制造前后段制程进行界定和分析的基础上,分别对...
  • 作者: 郭永辉
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  840-842,846
    摘要: 鼓-缓冲器-绳子(DBR)理论中瓶颈资源的生产往往采用启发式法则(如最早交货时间法则,EDD)进行安排,得到的排程结果一般不是最优解.为克服基于启发式法则进行瓶颈安排存在的不足,在考虑晶圆生...
  • 作者: 周继承 杨春晖 江清明 章晓文
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  843-846
    摘要: 研究了超大规模集成电路铝互连系统中铝通孔的电迁移失效机理及其可靠性寿命评价技术.试验采用CMOS和BiCMOS两种工艺各3组的铝通孔样品,分别在三个温度、恒定电流的加速条件下试验,以通孔开路...
  • 作者: 汪辉 罗仕洲 肖方
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  847-850
    摘要: 在半导体湿法蚀刻中,热磷酸广泛地用于对氮化硅的去除工艺,实践中发现高温下磷酸对氮化硅蚀刻率很难控制.从热磷酸在氮化硅湿法蚀刻中的蚀刻原理出发,分析了影响蚀刻率的各个因素,并通过实验分析了各个...
  • 作者: 孙俊峰 石霞 顾晓春
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  851-853,870
    摘要: 研究了低压化学气相淀积Sin(LPCVD)介质薄膜的内应力,采用XP-2型台阶仪测量了SiN介质薄膜的内应力,通过改变薄膜淀积时的工艺参数,观察了反应气体流量比、淀积温度、反应室压力等因素对...
  • 作者: 邱刚 雷玉勇 马超
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  854-858
    摘要: 半导体器件制造过程中通常采用锯片来切割芯片和封装元件.锯片一般只能切割直线轮廓,对于曲线轮廓或复合层材料,锯片切割会遇到很大的问题.水射流技术作为一种新的加工工艺,被成功引入到半导体制造行业...
  • 作者: 孙博 李健 谢劲松 陈颖
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  859-862
    摘要: 芯片粘结层的空洞是造成功率半导体芯片由于散热不良而失效的主要原因.运用有限元法对芯片封装结构进行了热学模拟分析,研究了粘结层材料、粘结层厚度、粘结层空洞的面积、空洞的位置对芯片温度分布以及芯...
  • 作者: 刘宝林 尹以安 张保平 毛明华
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  863-866
    摘要: 针对以蓝宝石为衬底的GaN基发光二极管出现的电流扩展不均的问题,采用有限元方法建立了GaN基发光二极管的三维网络模型,并对四种常见结构的器件进行数值模拟,发现影响二极管电流的因素不仅与发光二...
  • 作者: 李亮 潘宏菽 田爱华 赵彤 陈昊 霍玉柱
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  867-870
    摘要: 介绍了n+-SiC/Ti/Pt欧姆接触的制备方法及其接触特性,其中n+-SiC外延层是通过化学气相淀积的方法在偏离(0001)方向7.86.的4H-SiC衬底上进行同质外延生长所得.对于n+...
  • 作者: 于宗光 周德金 孙锋
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  871-874
    摘要: 设计了一种用于频率为200 MHz的32位浮点数字信号处理器(DSP)中的高速乘法器.采用修正Booth算法与Wallace压缩树结合结构完成Carry Sum形式的部分积压缩,再由超前进位...
  • 作者: 关富民 赵夕彬
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  875-877
    摘要: 介绍了S频段微波脉冲功率放大器模块的设计方法和试验研制过程.利用内匹配技术,采用混合集成电路制作,将四级芯片集成到微型封装的金属密封管壳中,前两级芯片采用GaAsMMIC电路,第三级采用Ga...
  • 作者: 应建华 王洁 陈嘉
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  878-881
    摘要: 提出了一种新颖的差分放大器拓扑结构,适用于单片集成模数转换器中的差分电压基准源.该结构经过电压、电流两级放大,实现了高开环增益和大电流驱动能力.本设计在德国XFAB公司的0.35 μm CM...
  • 作者: 叶英 曾健平 朱军 马勋
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2007年10期
    页码:  882-885
    摘要: 基于标准n阱0.6μm CMOS工艺条件,设计了一种用于高阶∑△ADC的基准源结构.该电路在传统带隙基准电路的基础上,采用三个纵向晶体管串联的形式减小运放输入失调电压对基准电压的影响同时采用...

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

半导体技术评价信息

期刊荣誉
1. 中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)
2. 中国科技论文统计用刊
3. 中文核心期刊

半导体技术统计分析

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