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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 为了评估气体介质经多级漏孔的泄漏量,指导多道密封结构的安全设计,有必要研究气体经多级漏孔的泄漏特性.通过建立双级与多级漏孔的数学模型,在不同的初始条件下对多级漏孔的泄漏特性进行了计算分析.结...
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32. 小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素....
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 本文介绍了磁场辅助PECVD工作原理,磁场对沉积薄膜的影响.通过对PECVD中磁场对带电粒子的约束作用、等离子体能量转换频率分析,建立辅助磁场模型并进行数值计算.在现有辅助磁场基础上改进设计...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 本文通过在GaAs(100)单晶衬底上MBE生长GaAs过程中形成的RHEED衍射图样,对GaAs薄膜的表面形貌进行研究.分析GaAs表面粗糙和生长时不发生RHEED强度振荡的原因.讨论在生...
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35. 会议消息刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 在平行板反应离子刻蚀系统的圆筒形腔体的侧壁上绕上电流线圈后,系统中的磁场强度和均匀性都可进行调节.本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,通过数值计算的方法在该系统中获得均匀的磁场.
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 本文采用射频磁控溅射法,结合氩气气氛退火工艺制备了VO2薄膜.通过优化磁控溅射和热退火工艺,结合激光拉曼光谱仪(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)、电镜扫描(SEM)对薄膜的相结构、组...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 以大面积喷淋式平板电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)反应室为研究对象,利用FlexPDE和CFD-ACE+商业软件,对反应室电极间的电场和流场分布进行了数值模拟.根据数...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 采用反应磁控溅射方法在ITO玻璃基片上制备WO3薄膜,并在不同温度下进行退火处理.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光分光光度计、电化学测试系统分析薄膜的微观结构及...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 采用电弧炉熔炼方法得到Fe82Ga18-xAlx(x=3,9,12)合金的多晶样品.利用X射线衍射(XRD)和金相观察对合金的相组成进行分析,并对其磁致伸缩系数进行测量.经过真空磁场热处理后...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 运用ANSYS软件建立了有限元模型,对直流等离子体喷射制备的自支撑金刚石厚膜在脱离基体前、后的残余应力分别进行了数值模拟.为了使模拟更接近于金刚石膜的真实制备环境,本文取消了以往对金刚石膜或...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 摆杆轴承是锤钻电动工具的重要部件,对摆杆轴承整个生产流程进行了深入分析,并修改了轴承内圈、外圈的热处理工艺,得到了理想的显微组织,产品顺利通过测试,为顺利生产摆杆轴承提供可靠的理论指导.
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43. 便携式气体微流量计的设计刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 为了实现在工作现场对氦质谱检漏仪进行全量程漏率示值的校准,设计了一套便携式气体微流量计.该流量计由供气与抽气系统、定容室与压力测量系统、流量测量系统和烘烤系统等四部分组成,采用固定流导法及定...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 目前陶瓷真空灭弧室的生产规模已达到大批量生产阶段,对其产品性能要求和检测速度提出了苛刻的要求.本文针对陶瓷真空灭弧室的产品性能检测要求,研制了一套基于LPC+PLC+智能仪表的计算机自动产品...
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45. 立式高温真空烧结炉控制系统的设计刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 介绍了立式高温真空烧结炉系统结构、功能.根据系统要求及操作工艺设计了基于分布式、模块化DCS控制解决方案.详细论述了控制系统的硬件配置、软件设计,实现了生产设备工艺运行工况实时监测,以及被控...
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46. β放射性电离规灵敏度衰减特性分析刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 介绍了一种采用3H作为放射源的β放射性电离规灵敏度衰减特性分析工作,通过对放射性电离规灵敏度衰减特性的理论分析和实际测量,得到放射性电离规长时间贮存和使用后会导致测量灵敏度显著下降、线性压力...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 针对直流电弧等离子喷射化学气相沉积金刚石设备,以PLC作为系统的控制核心,触摸屏作为人机界面,梯形图为编程语言,不仅实现了设备的自动运行,而且还由上位机的组态软件通过485总线实现了多台设备...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 四极质谱计多次搭载在探测器上对金星、土星、木星、土卫六等外星球表面大气成份进行了分析,获得了一些有价值的信息.本文分析了四极质谱计在空间应用时面临的问题;以具体的空间探测任务为例.探讨了质谱...
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49. 脉冲真空弧离子源的质谱分析刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 本文介绍了脉冲真空弧离子源的特点,建立了脉冲真空弧离子源工作瞬间放气成分的质谱分析系统.应用四极质谱仪记录了真空系统中离子源工作前后的谱图,并通过数据软件的二次处理初步取得了脉冲真空弧离子源...
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50. 第十六讲真空系统的操作与维护刊名： 真空发表期刊： 2010年2期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 本研究利用SEM、AES、XRD、Raman谱仪、纳米压痕仪、划痕仪和球-盘磨损实验机对掺钨DLC膜的微观结构和摩擦学性能进行了研究,结果表明:掺钨DLC膜光滑致密,具有纳米晶碳化钨和非晶碳...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 主要介绍了采用真空磁控溅射技术在平板集热器板芯上沉积选择性吸收涂层,提高平板集热器的集热效率和使用的耐候性.该工艺可以实现集热板芯清洁环保连续真空镀膜工业化生产,对发展太阳能光热利用技术具有...
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53. 信息刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 在平面磁控溅射镀膜系统中,薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标,得到了国内外学者们的广泛研究.本文以膜厚分布的理论模型为出发点,从工艺条件及模型参数两个方面,对靶与基片...
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55. 旋转圆柱靶溅射沉积产额分布刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 采用数值计算模型,计算了旋转圆柱靶溅射产额分布.数值计算中假设从靶溅射出来的粒子服从余弦函数定律.计算得到的单靶溅射产额分布和Al靶在Ar气压0.4Pa测量得到的实验值基本相同.同时计算了孪...
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56. 高气压下氢化微晶硅薄膜的高速沉积刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 利用甚高频等离子增强化学气相沉积(VHF-PECVD)制备了一系列微晶硅(μc-Si:H)薄膜.研究分析了功率密度、硅烷浓度和气体流量在较高沉积气压(500 Pa和600 Pa)下对薄膜生长...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统,研究了溅射靶电流、偏压和Ar流量对偏流密度的影响.结果表明.偏流密度随着偏压和靶电流的升高而增大,但随偏压的提高偏流密度的增加趋势趋于平缓;偏流密度随着...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 采用真空电弧离子镀技术在K465镍基高温合金基材上制备了AlYSi沉积一扩散型涂层.研究了真空退火处理前后涂层的组织结构,以及涂层在900℃下的燃气热腐蚀行为.结果表明,经真空退火处理后的A...
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刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 对于高温合金,把合金元素及化合物充分同溶于基体内,才能获得良好的高温性能.本文主要介绍了INCO718高温合金的应用及工艺特点,并对该材料的焊接性能进行了深入的研究分析,总结出高温合金表面氧...
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60. 工业锂蒸馏炉研发刊名： 真空发表期刊： 2010年3期页码:摘要： 从自己实践出发,对真空蒸馏法获取高纯锂的工作原理,工艺路线,设备结构及使用性能进行了全面系统地论述,希望这些工作对从事相关领域研究的人及相关单位的生产施工有所帮助.
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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