AZ91D化学镀Ni-P结构耐蚀性研究

• 作者: 余春燕 侯利锋 卫英慧 毕虎才 胡兰青 许并社
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 耐蚀性 化学镀
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 新工艺新技术
• 页码范围: 162-166
• 页数: 5页
• 分类号: TG178
• 字数: 2541字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3474.2005.03.010

摘要

利用金相、SEM、TEM、XRD、盐雾、电化学测量系统研究了镁合金AZ91D的化学镀Ni-P镀层组织结构及耐蚀性能,结果表明,化学镀镍层为胞状致密结构,镀层厚度均匀,与基体结合良好.P的质量分数为6.68%,为中P镀层,镀层阻抗为0.6 Ω,镀层组织为非晶加少量微晶;镀层耐腐蚀性能良好,连续盐雾8 h未出现腐蚀斑点.盐雾腐蚀速率明显低于基体的腐蚀速率.化学镀镍磷层的最小腐蚀电流密度为4.52μA/cm2,腐蚀电位为-250 mV.低于200℃退火,镀层的耐腐蚀性能有所提高,而高于200℃退火,其耐腐蚀性能随温度提高而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡兰青		48	448	13.0	20.0
2	卫英慧		166	1066	16.0	24.0
3	许并社		335	3432	28.0	45.0
4	侯利锋		110	536	13.0	17.0
5	余春燕		13	130	6.0	11.0
6	毕虎才		7	95	6.0	7.0