193 nm光刻散射条技术研究

• 作者: 刘明 康晓辉 张立辉 王德强 范东升 谢常青
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 亚分辨率辅助图形 散射条 离轴照明 分辨率增强 光学临近效应校正
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 360-363
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2577字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-3365.2005.04.009

摘要

介绍了 193 nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理.通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193 nm光刻中孤立线散射条的优化方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢常青		2	10	2.0	2.0
2	康晓辉		1	8	1.0	1.0
3	张立辉		1	8	1.0	1.0
4	范东升		1	8	1.0	1.0
5	王德强		1	8	1.0	1.0