玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究

• 作者: 吴志华 王海涌
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镀膜 双面光刻 双面对准 对准标记
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 制造技术
• 页码范围: 576-578
• 页数: 3页
• 分类号: TH745.2|TN305.7
• 字数: 1678字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.08.005

摘要

介绍了双面光刻对准原理及技术新发展,表明了不变焦对准的技术优势.针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样,经重新调焦,利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准,不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准,规避了可能由物镜侧移带来的对准误差.最后提供了几种常用的对准标记图样,并为了加工操作的便利引入了辅助搜索线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志华	中北大学电子与计算机科学技术学院	5	14	2.0	3.0
2	王海涌	北京航空航天大学航天制导导航控制系	29	230	9.0	15.0