纳米压印技术进展及应用

• 作者: 段智勇 罗康
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印 气压辅助压印 激光辅助压印 滚轴式压印
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 253-257
• 页数: 5页
• 分类号: TN29
• 字数: 2123字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3474.2009.05.002

摘要

半导体加工几十年里一直采用光学光刻技术实现图形转移,最先进的浸润式光学光刻在45 nm节点已经形成产能,然而,由于光学光刻技术固有的限制,已难以满足半导体产业继续沿着摩尔定律快速发展.在下一代图形转移技术中,电子束直写、X射线曝光和纳米压印技术占有重要地位.其中纳米压印技术具有产量高、成本低和工艺简单的优点,是纳米尺寸电子器件的重要制作技术.介绍了传统纳米压印技术以及纳米压印技术的新进展,如热塑纳米压印技术、紫外固化纳米压印技术、微接触纳米压印技术、气压辅助纳米压印技术、激光辅助压印技术、静电辅助纳米压印技术、超声辅助纳米压印技术和滚轴式纳米压印技术等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段智勇		37	286	10.0	15.0
2	罗康		3	47	3.0	3.0