Al/Ni薄膜自蔓延反应连接温度场模拟及分析

• 作者: HOU Eric WANG Paul 吴丰顺 夏卫生 王百慧 祝温泊
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 自蔓延反应 连接过程 温度场 有限元模型 Al/Ni薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TN605
• 字数: 2506字
• 语种: 中文

摘要

自蔓延反应能在极短时间内产生足够集中的热量熔化钎料实现材料的连接，具有连接效率高、对连接母材热影响小等特点，从而在材料连接和电子封装领域有着广泛的应用前景。针对Cu/Cu和Cu/Si两种互连结构，建立Ai/Ni薄膜自蔓延反应的连接温度场有限元模型，分析不同钎料厚度、预热条件等参数以及不同连接材料对自蔓延反应连接温度场的影响规律。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴丰顺		70	604	15.0	21.0
2	夏卫生		45	107	6.0	8.0
3	王百慧		1	6	1.0	1.0
4	祝温泊		1	6	1.0	1.0