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摘要:
随着PCB技术的迅猛发展,要求制作的线路越来越细.在HDI中,由于设计不利于图形电镀,在半加成法制作中会出现很多问题.主要研究适合减成法制作精细线路的过程,其中通过对铜箔、设备及干膜的比较,找到了可以制作30μm/30μm精细线路的方案.制作的线路,P p可以达到0.8以上,蚀刻因子在3.7以上.同时,采用一种新的方法,可以有效地判断蚀刻因子的优劣,避免由于线宽差异造成蚀刻因子判断失误的结果.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 减成法制作30μm/30μm精细线路
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 减成法 精细线路 铜箔 真空蚀刻 二流体 蚀刻因子 干膜
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 微组装技术 SMT PCB
研究方向 页码范围 278-281
页数 4页 分类号 TN41
字数 2494字 语种 中文
DOI 10.14176/j.issn.1001-3474.2018.05.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 付海涛 7 7 1.0 2.0
2 任潇璐 1 0 0.0 0.0
3 陈祝华 2 1 1.0 1.0
4 陈金龙 1 0 0.0 0.0
5 黄伟 4 5 1.0 2.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (3)
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参考文献  (3)
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2001(1)
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2017(2)
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  • 二级参考文献(1)
2018(0)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
减成法
精细线路
铜箔
真空蚀刻
二流体
蚀刻因子
干膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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