半导体学报(英文版)期刊
出版文献量(篇)
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
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  • 作者:
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  313-316
    摘要:
  • 作者: 关旭东 刘晓彦 张盛东 王阳元 韩汝琦
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  317-324
    摘要: 提出了一种新结构的低温多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT).该poly-Si TFT由一超薄的沟道区和厚的源漏区组成.超薄沟道区可有效降低沟道内陷阱密度,而厚源漏区能保证良好的源漏接触...
  • 作者:
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  325-332
    摘要:
  • 作者: 卢殿通 吴克 周锡煌 孙文红 武兰青 陈开茅 顾镇南
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  333-339
    摘要: 用深能级瞬态谱和高频电容-电压技术研究了固体C70/Si异质结的界面电子态.研究结果表明在C70/Si的界面上明显存在三个电子陷阱Eit1(0.194)、Eit2(0.262),Eit3(0...
  • 作者: 张发培 张新夷 徐彭寿 徐法强 潘海斌 祝传刚 陆尔东
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  340-345
    摘要: 利用同步辐射和铁磁共振研究了使用CH3CSNH2硫钝化的GaAs(100)表面铁超薄膜的电子结构和磁性.实验结果表明,硫钝化能阻止As向铁薄膜层的扩散,减弱As和Fe的相互作用并增强了在Ga...
  • 作者: 杨建树 王学森 翟光杰 陈显邦
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  346-353
    摘要: 利用扫描隧道显微镜(STM)等分析手段,我们对Si(111)在NH3气氛下氮化后的表面结构进行了研究.Si(111)在1075K暴露于NH3后,表现所形成的氮化硅存在周期为1.02nm的(“...
  • 作者: 刘惟敏 刘虹雯 吴锦雷 施祖进 薛增泉
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  354-358
    摘要: 用扫描隧道显微镜(STM)测试分析了高定向石墨(HOPG)表面的碳纳米管.在大气中室温下获得了碳纳米管原子结构,测量了碳管的I-V特性.结果表明,STM观察到的一般情况下的碳管容易呈簇集状态...
  • 作者: 余金中 杨沁清 欧海燕 王启明 胡雄伟 雷红兵
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  359-364
    摘要: 阵列波导光栅复用/解复用器中波导光栅孔径是器件重要的结构参数.波导光栅孔径数值有限,部分光场将因未被耦合进而损失掉.同时引起输出波导接收端焦场变形,增加了器件串扰.本文详细分析和计算了由于波...
  • 作者: 姚冬敏 彭学新 李述体 江风益 熊传兵 王立 辛勇
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  365-368
    摘要: 使用MOCVD技术在Al2O3衬底上生长了GaN:Mg薄膜.通过对退火后样品的光电性能综合分析,研究了掺Mg量对生长P型GaN的影响.结果表明:要获得高空穴载流子浓度的P型GaN,Mg的掺杂...
  • 作者: 孙殿照 张国义 张太平 张建平 林兆军 武国英 王玮 阎桂珍
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  369-372
    摘要: 在MBE和MOCVD两种方法制备的n-GaN材料上制作了Au-GaN肖特基结,测定了肖特基结的室温I-V特性.分析表明:GaN材料的载流子浓度对肖特基结的特性有很大的影响
  • 作者: 刘理天 李志坚 马玉涛
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  373-377
    摘要: 从载流子在MOS结构反型层内的分布出发,利用表面有效态密度(SLEDOS:SurfaceLayer Effeotive Density-of-States)的概念,在经典理论框架内建立了包含...
  • 作者: 何宝平 姚育娟 姜景和 张正选 罗尹虹
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  378-382
    摘要: 电离辐射在MOS结构的SiO2层中建立正陷阱电荷,这些正陷阱电荷在正强栅偏压(+20V)下迅速减少,这是由于正栅压引起硅衬底中的电子向SiO2层隧道注入,从而与陷阱正电荷复合.正栅压退火不仅...
  • 作者: 严荣良 任迪远 张国强 艾尔肯 范隆
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  383-387
    摘要: 研究了PMOS剂量计在不同温度和栅偏置下的辐照退火表现.结果表明:温度和退火偏置条件是影响初始退火速率和退火幅度的重要因素,较高退火温度下,退火速率高,幅度大;相同退火温度下,正偏置与负偏置...
  • 作者: 吴丽清 庄宝煌 朱梓忠 李开航 黄美纯
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  388-393
    摘要: 建立了GAT器件集电结耗尽层电位分布和电场分布的二维解析模型,定量研究了GAT的栅屏蔽效应和GAT的基区穿通电压VPI并且解释了该器件实现高频率与高电压兼容的实验结果.该模型可供优化设计双极...
  • 作者: 白雪冬 闻立时 陈猛 黄荣芳
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  394-399
    摘要: 基于对锡掺杂三氧化铟(Sn-doped In2O3,简称ITO)和铝掺杂氧化锌(Al-doped ZnO,简称ZAO)薄膜退火前后XRD数据的分析,研究了薄膜晶格常数畸变的原因,同时讨论了I...
  • 作者: 于丽娟 朱长纯 陈晓宁
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  400-403
    摘要: 首次利用前馈三层神经网络模型,建立了场发射薄膜的膜厚的神经网络预测模型,用金刚石薄膜的膜厚数据进行验证.结果表明,该模型预测的相对误差小于6.1%.
  • 作者: 宗祥福 常旭
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  404-408
    摘要: 在U.G.Meyer离子与表面吸附气体相互作用模型的基础上,提出了聚焦离子束辅助淀积的淀积速率模型.该模型包含了淀积过程中淀积作用和溅射作用的共同影响,指出在一定的离子束电流和反应气体流量下...
  • 作者: 孙学伟 王雪梅 贾松良
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  409-413
    摘要: 当微电子器件封装中的热应力足够大时,常常会导致封装开裂甚至失效.热应力主要是在制造过程中由于环境温度变化和封装材料热失配而产生的.因此,对封装设计进行热应力估算和可靠性研究是必不可少的.采用...
  • 作者: 刘焕章 刘祥林 姚文卿 徐萍 汪度 王晓晖 王良臣 葛永才 袁海荣 郑东 陆大成 韩培德 高翠华
    发表期刊: 2000年4期
    页码:  414-416
    摘要: 报道了用LP-MOVPE技术在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上生长出以双掺Zn和Si的InGaN为有源区的绿光InGaN/AlGaN双异质结结构,并研制成功发射波长为520-540nm的绿光L...

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
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ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

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