铜表面硫化膜形成及其电接触特性

• 作者: 杨光 章继高 鲍春燕
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铜腐蚀膜 库仑分析法 电接触
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 新工艺新技术
• 页码范围: 120-122
• 页数: 3页
• 分类号: TG1
• 字数: 1998字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3474.1999.03.011

摘要

用库仑分析法测定了在湿热含H2S气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨.俄歇能谱分析表明库仑分析法测定铜的硫化腐蚀膜厚度是可靠的.分析了膜层厚度变化对电接触性能的影响及其异常现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章继高		17	173	8.0	12.0
2	鲍春燕		2	10	2.0	2.0
3	杨光		22	404	7.0	20.0