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摘要:
随着微电子封装的快速发展,对高速电镀工艺及设备提出了更高的要求,本文对高速电镀工艺及其与各种因素的关系进行讨论并提出应对方法.
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文献信息
篇名 微电子封装高速电镀工艺初探
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 微电子封装 高速电镀 工艺
年,卷(期) 2003,(10) 所属期刊栏目 封装与测试技术
研究方向 页码范围 46-47,69
页数 3页 分类号 TN305.94|TN305.8
字数 2603字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2003.10.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李兵 1 0 0.0 0.0
2 林连连 1 0 0.0 0.0
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2003(0)
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研究主题发展历程
节点文献
微电子封装
高速电镀
工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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