多应力结构CMOS器件的模拟研究

• 作者: 周东 张庆东 施昊 顾晓峰
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多应力结构 应变硅 互补金属氧化物半导体 模拟
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 器件制造与应用
• 页码范围: 1054-1056,1083
• 页数: 4页
• 分类号: TN432
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.12.002

摘要

使用TCAD仿真工具Sentaurus在45 nm节点工艺下模拟研究了包含多应力结构的应变Si CMOS器件.模拟所得的开关电流比与相同节点工艺下报道的实验结果能很好吻合,验证了所用模型及方法的正确性.用Sentaurus工艺模拟工具得到了器件内部的应力和掺杂分布,并用Sentaurus器件模拟工具分析了各种应力结构对电学特性的影响.结果表明:在nMOS中,SMT和DSL能有效提高器件性能,而STI却会降低器件性能;在pMOS中,SiGe S/D和DSL的存在是性能改善的主要原因,而STI对性能改善的帮助较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾晓峰	江南大学信息工程学院	115	265	9.0	11.0
2	周东	江南大学信息工程学院	8	8	2.0	2.0
3	张庆东	江南大学信息工程学院	4	5	2.0	2.0
4	施昊	江南大学信息工程学院	1	0	0.0	0.0