半导体设备真空与检漏

• 作者: 申承志 郝晓亮
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 检漏 半导体设备 He质谱检漏仪 真空泵 真空
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 644-646,657
• 分类号: TN305
• 字数: 2728字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.07.007

摘要

基于实际应用,介绍了半导体设备真空结构和真空室常用部件,讲述了He质谱检漏仪的使用方法.总结了真空检漏的经验,阐述了微漏难检的现状.分析了磁控溅射台和ICP真空故障,采用静压检漏法和He质谱检漏仪检漏法,给出了零部件微漏导致这些设备抽不上高真空的结论.指出今后的发展方向是真空部件小型化,以及根据设备特点来提高真空部件的可靠性.结果表明,先排除干扰因素,再细心检漏,可大大提高检漏效率,使设备尽快恢复正常.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申承志	中国电子科技集团公司第十三研究所	4	0	0.0	0.0
2	郝晓亮	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	71	2.0	6.0